二氧化硫腐蝕試驗(yàn)機(jī)-詳細(xì)資料歡迎垂詢

二氧化硫腐蝕試驗(yàn)機(jī)用途：

     適用于對(duì)金屬材料的防護(hù)層、零部件、電子器件、橡、塑膠及工業(yè)產(chǎn)品等進(jìn)行加老化試驗(yàn)

，迅速方便地重現(xiàn)噴涂與未處理過(guò)的金屬表面的老化過(guò)程。試驗(yàn)箱模擬和強(qiáng)化特定環(huán)境中的二

氧化硫條件，研究二氧化硫?qū)Ξa(chǎn)品的作用規(guī)律，快速鑒定和評(píng)價(jià)產(chǎn)品抗二氧化硫老化性能與抗

二氧化硫劑防護(hù)效能的方法，進(jìn)而采取有效的防老化措施，以提高產(chǎn)品的使用壽命。

規(guī)格及型號(hào):

型號(hào): ZT-CTH-150A-L     內(nèi)形尺寸W×H×D   500×600×500mm

型號(hào): ZT-CTH-225A-L     內(nèi)形尺寸W×H×D   500×750×600mm

型號(hào): ZT-CTH-408A-L     內(nèi)形尺寸W×H×D   600×850×800mm

型號(hào): ZT-CTH-800A-L     內(nèi)形尺寸W×H×D   1000×1000×800mm

型號(hào): ZT-CTH-1000A-L   內(nèi)形尺寸W×H×D   1000×1000×1000mm

技術(shù)參數(shù):

1、溫度范圍：+10℃～+80℃

2、濕度范圍：20%～98%R.H

3、溫度波動(dòng)度：≤±0.5℃

4、溫度均勻度：≤±2℃

5、升溫速率：0.7～1.5℃/min

6、濃度：10～500/1000/2000/5000/10000ppb(可追加)

7、氣體流速：12～16mm/S（可調(diào)）

8、試樣架：2套

10、時(shí)間設(shè)定范圍：0～9999小時(shí)

11、電源要求：AC220V±10%/50HZ 單相三線制.

材質(zhì)：
1、外殼材質(zhì)特殊防銹處理冷軋板噴塑烤漆（電腦白色）

2、內(nèi)膽材質(zhì)采用耐腐蝕不銹鋼板;

3、保溫材質(zhì)采用高密度玻璃纖維棉或硬質(zhì)Polurethane發(fā)泡。

4、攪拌系統(tǒng)采用長(zhǎng)軸風(fēng)扇電機(jī)，耐高低溫之不銹鋼多翼式葉輪,以達(dá)強(qiáng)度對(duì)流垂直擴(kuò)散循環(huán);

5、門與箱體之間采用雙層耐高溫之高張性密封條以確保測(cè)試區(qū)的密閉;

6、機(jī)器底部采用高品質(zhì)可固定式PU活動(dòng)輪;

7、觀察窗采用多層中空鋼化玻璃,內(nèi)側(cè)膠合片式導(dǎo)電膜;

加熱、加濕、除濕系統(tǒng)：

A、加熱系統(tǒng)：

1、采用抗酸腐蝕鈦合金高速加溫電加熱器;

2、溫度控制輸出功率均控制器演算，以達(dá)高精度高效率之用電效益;

B、二氧化硫試驗(yàn)，二氧化硫測(cè)試加濕系統(tǒng)：

1、內(nèi)置式鍋爐蒸汽式加濕器;

2、具有自動(dòng)抽水補(bǔ)償、缺水報(bào)警系統(tǒng);

3、抗酸腐蝕鈦合金電熱蒸發(fā)汽發(fā)生方式加濕器

4、濕度控制均采用P.I.D ＋S.S.R，系統(tǒng)控制;

C、除濕系統(tǒng)：采用蒸發(fā)器盤管露點(diǎn)溫度層流接觸除濕方式;

制冷系統(tǒng)：

1、壓縮機(jī)：全封閉原裝法國(guó)純進(jìn)口泰康牌；

2、制冷方式：風(fēng)冷式

3、制冷劑：美國(guó)杜邦R404A（環(huán)保型）

4、全系統(tǒng)管路均作通氣加壓48H撿漏測(cè)試；

5、加溫、降溫系統(tǒng)*獨(dú)立；

6、內(nèi)螺旋式冷媒銅管；

7、斜率式蒸發(fā)器；

8、干燥過(guò)濾器、冷媒流量視窗、干燥器、油分離器、電磁閥、制冷撫輔助件采用進(jìn)口原裝

     件；

控制系統(tǒng)：

1、溫濕度、氣體一體式儀表采用進(jìn)口數(shù)顯觸摸式按鍵式，P.I.D微電腦S.S.R溫濕度控制器

2、精度：0.1℃（顯示范圍）

3、解析度：±0.1℃

4、感溫傳感器：PT100鉑電阻測(cè)試器；

5、控制方式：熱平衡調(diào)溫方式；

6、溫濕度控制采用P.I.D系統(tǒng)同頻道協(xié)調(diào)控制;

7、具有自動(dòng)演算的功能，可減少人為設(shè)定時(shí)所帶來(lái)的不便;

8、二氧化硫濃度控制采用進(jìn)口PIC可編程序模塊，及PLC模擬量擴(kuò)展模塊“5.7寸” 高清晰液

     晶屏顯示器;