CVD-1200系統(tǒng)由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成?？蓪?shí)現(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。

CVD-1200系統(tǒng)主要功能和特點(diǎn)：

1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，zui高真空可達(dá)0.0001Pa；

2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；

3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。

4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣；

5、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用安全可靠。

主要用途：

高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結(jié)等場所。

主要技術(shù)參數(shù)：

SKGL-1200

控溫方式

采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。

加熱元件

0Cr27Al7Mo2

工作電源

AC220V      50HZ/60HZ

額定功率

4KW

爐管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作溫度

≤1150℃

zui高溫度

1200℃

恒溫精度

±1℃

加熱區(qū)長度

440mm或220mm/220mm

升溫速度

≤20℃/min

密封方式

不銹鋼快速法蘭擠壓密封

ZK-F

真空范圍

0.1-0.001Pa

極限真空

4.0*10^-4Pa

產(chǎn)品配置

雙級旋片真空泵+分子泵

測量方式

復(fù)合真空計(jì)

真空規(guī)管

電阻規(guī)+電離規(guī)

冷卻方式

風(fēng)冷

工作電源

AC220V 50/60HZ

抽速

110L/S

ZDFC-Ⅲ

測量范圍

5～1*10^-5 Pa

穩(wěn)壓(真空)范圍

1～5*10^-3Pa

壓力(真空)穩(wěn)定精度）

±3%

控制范圍

2.5*10^3～1*10^-4 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-Ⅲ

控制方式

D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀

流量規(guī)格

0－500SCCM /0－1SLM,（可根據(jù)客戶需要配置）

線性

±1%F.S

準(zhǔn)確度

±1%F.S

重復(fù)精度

±0.2%F.S.

響應(yīng)時(shí)間

≤2sec

耐壓

3MPa

氣路通道

3通道（根據(jù)客戶需求）

針閥

316不銹鋼

管道

Φ6mm不銹鋼管

接口

SwagelokΦ6mm