VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），基片Z大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材...

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石...

射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭...

MSK-AFA-L800是一款800mm長的流延式涂覆機(jī)，含真空吸盤和無油真空泵，配合微米級可調(diào)式刮刀可制作長的厚膜。具有*的自動推進(jìn)裝置，可以在180mm寬度...

雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材...

GSL-1800X-SBC2是為掃描電鏡和電子揉針等進(jìn)行試驗(yàn)制備的設(shè)備，可進(jìn)行真空蒸碳、真空鍍膜和離子濺射，它也可以在高純氫氣保護(hù)下進(jìn)行等離子處理。對于實(shí)驗(yàn)室此...

Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調(diào)制膜器，由于有兩個刮刀所以涂覆效果會更加均勻。操作者可通過千分尺來調(diào)節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實(shí)驗(yàn)室制...

可調(diào)制膜器-這是一款*的濕法制膜工具，可通過千分尺調(diào)節(jié)制膜厚度。操作者可通過千分尺來調(diào)節(jié)刮刀與所涂覆平面之間的間隙，此工具特別適合實(shí)驗(yàn)室制作電池電極，陶瓷膜前期...

MSK-AFA-II-VC是一款通過CE認(rèn)證的自動涂覆機(jī)，用千分尺調(diào)節(jié)以達(dá)到所要涂覆的薄膜厚度。儀器采用真空吸附來固定襯底，使得涂敷過程中襯底不會起褶皺，從而使...

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比...

MSK-NFES-3C靜電紡絲機(jī)（靜電紡絲）可應(yīng)用于生物高分子、通用高分子、預(yù)聚體納米纖維制備，高分子共混物納米纖維的制備，具有納米孔洞、納米顆粒、納米珠串結(jié)構(gòu)...

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶...

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...

EQ-TM106膜厚監(jiān)測儀是采用石英晶體振蕩原理，結(jié)合*的頻率測量技術(shù)，進(jìn)行膜厚的在線監(jiān)測。主要應(yīng)用于MBE、OLED熱蒸發(fā)、磁控濺射等設(shè)備的薄膜制備過程中，對...

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧...

MSK-AFA-E300 連續(xù)式實(shí)驗(yàn)型自動涂布機(jī)是科晶集團(tuán)研制的一款專門用于箔材表面涂敷的自動化設(shè)備。采用PLC（日本松下）與人機(jī)（威綸）控制系統(tǒng)，人性化的中英...

OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內(nèi)載樣盤可放置3" 的圓形或...

小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti, Al 和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實(shí)驗(yàn)研究，這是一款鍍...

小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進(jìn)行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。