緩釋消毒器裝置二氧化氯|鴻百潤(rùn)環(huán)保

緩釋消毒器可以實(shí)現(xiàn)消du藥劑的緩慢釋放，這樣相比其他消毒設(shè)備，使用同重量的消毒劑緩釋消毒器的消毒時(shí)間更長(zhǎng)，運(yùn)行成本也更低。但是我們?cè)谑褂镁忈屜酒鲿r(shí)需注意以下事項(xiàng)：

1.緩釋消毒器所用原料NaCLO3和HCL到應(yīng)分開單獨(dú)存放，NaCLO3應(yīng)存放在干燥、通風(fēng)、避光處，嚴(yán)禁與易燃物品如木屑、硫磺、磷等物品共同存放，嚴(yán)禁擠壓、撞擊。

2.工作間嚴(yán)禁煙火，擦洗設(shè)備時(shí)應(yīng)注意電器控制部分，防止觸電。 

3.原料罐的外部裝有過濾器，使用一段時(shí)間后，應(yīng)注意沖洗。 

4.冬天應(yīng)注意防凍，并采取必要的取暖措施，以免損壞設(shè)備及加藥管道路。設(shè)備間應(yīng)干燥、避光、通風(fēng)良好。

5.工業(yè)HCL(濃度31%)應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn)《GB320-93工業(yè)合成HCL》的要求。嚴(yán)禁使用廢酸，尤是內(nèi)含有要物、油脂的工業(yè)廢SUAN。NaCLO3應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn)《GB1618-1995工業(yè)用NaCLO3》的要求。

6.計(jì)量泵及給料管、水射器在原料和水中含有雜質(zhì)的情況下易堵塞，應(yīng)注意清理疏通，并應(yīng)經(jīng)常清理原料罐的沉淀物。

7.緩釋消毒器外殼禁止碰撞、擠壓，避免日曬。

    根據(jù)上述做法來使用緩釋消毒器，可以更好的保護(hù)設(shè)備，降低設(shè)備的故障率以及減少成本支出。

緩釋消毒器的穩(wěn)定運(yùn)行是需要一定條件的，而具體的條件有幾下幾點(diǎn)：

    1.電源：AC220V50HZ；

    2.加藥方式為連續(xù)或間斷加藥，根據(jù)季節(jié)和水質(zhì)不同，加藥時(shí)間、次數(shù)不同。
    3.加藥動(dòng)力水為工業(yè)水或自來水；

    4.使用的化學(xué)藥品質(zhì)量

    ①鹽酸：應(yīng)符合GB320-93《工業(yè)用合成鹽酸》中1級(jí)品標(biāo)準(zhǔn)，濃度為30％的液體。
    ②氯酸鈉：工業(yè)氯酸鈉純度99％的固體或濃度為30％的液體。

    所以我們?cè)谑褂镁忈屜酒鞯臅r(shí)候一定要在以上條件下進(jìn)行，以避免設(shè)備產(chǎn)生故障，并保持設(shè)備的良好使用效果。 

緩釋消毒器裝置二氧化氯|鴻百潤(rùn)環(huán)保