介紹
全息凹面IV型光柵能將色散光聚焦于一個(gè)平面上，適合與線陣或者面陣探測(cè)器搭配使用，以滿足高靈敏度、低雜散光并要求光譜儀體積緊湊的應(yīng)用。
特點(diǎn)
低雜散光
高光通效率
優(yōu)異的信噪比
應(yīng)用
平場(chǎng)成像
單色儀
案例
如圖顯示的是光柵將兩個(gè)獨(dú)立的光源成像到兩排獨(dú)立的線陣探測(cè)器上。光譜1是從狹縫1入射的“樣品光譜"，光譜2是從狹縫2入射的“參考光譜"。這些狹縫處也可以是光纖輸入。
清單
槽型 | 凹面基底上的非等間距非平行凹槽：正弦、三角形輪廓 |
雜散光 | 無(wú)鬼線和超低雜散光 |
波段范圍 | 170~4180nm |
刻線密度 | 65gr/mm~1800gr/mm |
基底尺寸 | 25x25mm~Φ108mm |
尺寸誤差 | 長(zhǎng)寬：0~±0.1mm 厚度：±0.1mm |
有效區(qū)域 | 四周各留有不大于2mm的冗余量 |
基底材質(zhì) | 常用Borofloat 33*，其他材質(zhì)可選 |
鍍膜 | 鋁膜* |
*特殊說(shuō)明：基底和鍍膜可定制。
可根據(jù)要求提供基底：包括熔融石英、Zerodur、ULE、金屬或其他材料。
鍍膜應(yīng)要求：AlMgF2、金或鉑。
槽型 | 凹面基底上的非等間距非平行凹槽：正弦、三角形輪廓 |
雜散光 | 消除鬼線和雜散光 |
波段范圍 | 100~3200nm |
閃耀波段 | 250~450nm |
刻線密度 | 300gr/mm~1200gr/mm |
基底尺寸 | 25x25mm~Φ70mm |
尺寸誤差 | 長(zhǎng)寬：0~±0.1mm 厚度：±0.1mm |
有效區(qū)域 | 四周各留有不大于2mm的冗余量 |
基底材質(zhì) | 常用Borofloat 33*，其他材質(zhì)可選 |
鍍膜 | 鋁膜* |
*特殊說(shuō)明：基底和鍍膜可定制。
可根據(jù)要求提供基底：包括熔融石英、Zerodur、ULE、金屬或其他材料。
鍍膜應(yīng)要求：AlMgF2、金或鉑。
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