全光譜分析儀使用近紅外輻射從液體、氣體、玻璃和聚合物薄膜中收集光譜數(shù)據(jù)。光譜數(shù)據(jù)由OmniView軟件進(jìn)行解釋，以確定材料的成分或物理特性，所有這些都是在具有實(shí)時(shí)挑戰(zhàn)性的工藝環(huán)境中進(jìn)行的。
全光譜分析儀NIR-O全套實(shí)驗(yàn)室分析儀系統(tǒng)
實(shí)驗(yàn)室全光譜分析儀采用與全光譜過程N(yùn)IR-O相同的光學(xué)組件進(jìn)行設(shè)計(jì)。這使得實(shí)驗(yàn)室中開發(fā)的校準(zhǔn)可以直接移動(dòng)到NIR-O現(xiàn)場(chǎng)分析儀，以實(shí)現(xiàn)無縫和精確的數(shù)據(jù)傳輸，具有高精度和可靠性。
實(shí)驗(yàn)室全光譜分析儀是一個(gè)6通道近紅外（1000-2100nm）分析儀。實(shí)驗(yàn)室和過程N(yùn)IR-O都提供了出色的信噪比、波長(zhǎng)穩(wěn)定性、NIST可追蹤波長(zhǎng)校準(zhǔn)、雙光束光學(xué)和內(nèi)置診斷。實(shí)驗(yàn)室NIR-O包括SMS過濾器和用于硬件和光學(xué)性能常規(guī)驗(yàn)證的腳本。使用6個(gè)可用通道中的一個(gè)，SMS現(xiàn)在位于分析儀內(nèi)部，因此，該通道上還必須安裝光纖跨接電纜。實(shí)驗(yàn)室NIR-O與所有導(dǎo)波探頭和流動(dòng)池兼容，可用于滿足分析需求的任何組合。
全光譜分析儀中試工廠應(yīng)用
中試工廠通常會(huì)在傳統(tǒng)的研究級(jí)實(shí)驗(yàn)室分析儀和為現(xiàn)場(chǎng)條件開發(fā)的過程分析儀之間做出選擇。實(shí)驗(yàn)室NIR-O的開發(fā)基于我們的NIR-O過程分析儀，然而，在實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中不必要的部件，如空調(diào)，被移除。這就產(chǎn)生了一個(gè)流線型的桌面分析儀，也可用于中試工廠操作。另一個(gè)好處是，當(dāng)項(xiàng)目進(jìn)入全面運(yùn)行時(shí)，校準(zhǔn)可以快速轉(zhuǎn)移到過程分析儀。
全光譜分析儀規(guī)格參數(shù)
| Product Name | LAB NIR-O |
|---|---|
| Analyzer Type | DG-NIR Spectrometer, Post-dispersed scanning grating |
| Product Part Number | |
| Bandwidth | 6.0 ± 0.3 nm (@1307 nm); 5.9-6.7 nm (Full Range) |
| Certifications | Optional CSA |
| Channels | 6 |
| Communications | Modbus TCP over Ethernet |
| Controller/Display | Touch Screen |
| Detector Type | Extended Range InGaAs with 2-stage TE cooler |
| Dimensions Enclosure (w x d x h) | 28.3 [719 mm] X 19.1 [484 mm] X 13.6 [346 mm] |
| Dual Beam | 1 reference channel for each 6 available sample channels |
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