用于過程監(jiān)測和優(yōu)化產(chǎn)品品質(zhì)的分析設(shè)備

德國普發(fā)真空pfeiffer vacuum超真空殘余氣體分析儀QMG 220 M2，PrismaPlus™，C-SEM，1-200 amu，交叉束離子源，W，200℃，0°

普發(fā)真空為真空處理過程中的氣體測定提供了各種不同的分析儀。從質(zhì)譜儀到復(fù)雜的分析系統(tǒng)，在我們這里您將會找到從超高真空范圍一直到大氣壓力的氣體分析解決方案。四極桿質(zhì)譜儀 PrismaPlus/PrismaPro 是氣體分析Z基礎(chǔ)的設(shè)備。PrismaPlus/Pro 是一個普遍適用的質(zhì)譜儀，其磁場軸技術(shù)保證了高靈敏度。它還具有高效率以及測量速度快的特點。并且 PrismaPlus/Pro 不僅僅顯示各自的分壓，同樣也可以檢測總壓力。它的界面接口使這款質(zhì)譜儀可以很容易地與氣體色譜儀連接。緊湊的設(shè)計，模塊化結(jié)構(gòu)和用戶友好軟件使其成為泄漏檢測、半導(dǎo)體制造、玻璃鍍膜、冶金化工的理想設(shè)備。另外，在研發(fā)領(lǐng)域也有無數(shù)的應(yīng)用。普發(fā)真空為其客戶在所有這些領(lǐng)域中提供量身定制的解決方案。當然，普發(fā)真空還提供所需的質(zhì)譜儀配件，例如各種離子源陰極。

什么是質(zhì)譜儀

質(zhì)譜測量是一種可以用來測量原子和分子質(zhì)量的方法。通過這種方式測量化學混合物成分的分壓來分析化合物。待分析的物質(zhì)首先被轉(zhuǎn)化為氣態(tài)的聚合狀態(tài)并且發(fā)生電離。電場使離子加速，使得它們在其各自的質(zhì)荷比基礎(chǔ)上被分類和分離。然后測定氣體各種成分的分壓。每個質(zhì)譜儀包括一個離子源、一個質(zhì)量過濾器和一個檢測器。根據(jù)所采用的質(zhì)量過濾器來區(qū)分不同類型的質(zhì)譜儀。由于其廣泛的應(yīng)用選項，四極桿質(zhì)譜儀具有可靠的測量表現(xiàn)。這些分析設(shè)備也經(jīng)常用于真空技術(shù)。

質(zhì)譜儀及其應(yīng)用

四極桿質(zhì)譜儀具有平行排列的四根電極桿，構(gòu)成了四極場。它們的交點與平面垂直于圓柱體軸線，形成一個場（因此命名為四極）。靜態(tài)電場使離子加速以后，離子飛過四極場。桿之間的四極場每次只會允許給定質(zhì)量的一個粒子通過，。四極桿質(zhì)譜儀提供高分辨率版本以簡易版兩種型號供用戶用作殘余氣體分析。由于其頻率范圍寬，這類質(zhì)譜儀可應(yīng)用于眾多領(lǐng)域，包括從藥理學到環(huán)境分析領(lǐng)域。

超高真空中的殘余氣體分析

帶有二級電子倍增器的四極桿質(zhì)譜儀，為超高真空室內(nèi)的氣體成分定性分析提供Z大的檢測靈敏度。

對于高真空下的殘余氣體分析，必須只檢測到極少量的氣體。普發(fā)真空殘余氣體分析儀里的二級電子倍增器因此保證了四極質(zhì)量過濾器提供的小型離子電流較高的放大率。所有使用的材料都經(jīng)過精心挑選，用于超高真空并能承受較高的烘烤溫度。

一些離子源可用于不同的應(yīng)用，包括具有極低釋氣速率的柵網(wǎng)離子源。

PrismaPlus™ QMG 220 M2, 1-200 amu

模塊化結(jié)構(gòu)的緊湊型質(zhì)譜儀可適合您的使用。有以下離子源可供選擇：具有靈敏度和線性的開放式離子源，適用于殘余氣體分析和 HV 與真空范圍內(nèi)分析性任務(wù)。適用于與進氣系統(tǒng)接合的氣密離子源。適用于直接進氣的交叉臂離子源。格柵離子源特別針對真空內(nèi)殘余氣體分析，具有極低脫氣率和解吸率。

產(chǎn)品描述

較高質(zhì)量范圍內(nèi)殘余氣體分析和分析性測量任務(wù)的質(zhì)量范圍 1-200 amu
高真空和真空范圍內(nèi)的高效殘余氣體分析和真空工藝監(jiān)控
測量速度、穩(wěn)定性和分辨率性能高
分析儀和電子裝置的互換性
兩根長絲形成Z佳可用性

PrismaPlus™ QMG 220 M2，具有交叉束離子源

適用于不與離子源壁相互作用的直接進氣
適用于與進氣系統(tǒng)接合
兩根長絲形成Z佳可用性
較高質(zhì)量范圍內(nèi)分析性測量任務(wù)的質(zhì)量范圍 1-200 amu

陰極	加熱溫度：分析儀 [攝氏度]	連接	E/A 接口	訂單號
鎢	200	0°		PT M06 231 110
鎢	200	0°	I/O 220	PT M06 231 111

PrismaPlus™ QMG 220 M2，具有氣密性離子源

適用于進氣系統(tǒng)、低耗氣量、高信號/噪音比例的組合
兩根長絲形成Z佳可用性
較高質(zhì)量范圍內(nèi)分析性測量任務(wù)的質(zhì)量范圍 1-200 amu

陰極	加熱溫度：分析儀 [攝氏度]	連接	E/A 接口	訂單號
鎢	200	0°	I/O 220	PT M06 221 111
鎢	200	90°	I/O 220	PT M06 221 121
釔銥	200	0°	I/O 220	PT M06 222 111

PrismaPlus™ QMG 220 M2，具有網(wǎng)格離子源

特殊用于真空下殘余氣體分析極低脫氣率和解吸率
兩根長絲形成Z佳可用性
較高質(zhì)量范圍內(nèi)殘余氣體分析的質(zhì)量范圍 1-200 amu

陰極	加熱溫度：分析儀 [攝氏度]	連接	E/A 接口	訂單號
鎢	200	0°	I/O 220	PT M06 241 111

PrismaPlus™ QMG 220 M2，具有開放式離子源

具有靈敏度和線性的離子源適用于殘余氣體分析和高真空與真空下分析任務(wù)
兩根長絲形成Z佳可用性
較高質(zhì)量范圍內(nèi)殘余氣體分析和分析性測量任務(wù)的質(zhì)量范圍 1-200 amu
高真空和真空范圍內(nèi)的高效殘余氣體分析和真空工藝監(jiān)控

陰極	加熱溫度：分析儀 [攝氏度]	連接	E/A 接口	訂單號
鎢	200	0°	I/O 220	PT M06 211 111
釔銥	200	0°	I/O 220	PT M06 212 111
釔銥	200	90°	I/O 220	PT M06 212 221

QMG 220 M2，PrismaPlus™，C-SEM，1-200 amu，交叉束離子源，W，200℃，0°

概述

PrismaPlus 緊湊型質(zhì)譜儀
適用于 Windows XP Professional 和 Vista Ultimate 的 Quadera®軟件
簡單定義和調(diào)用測量方案
借助集成的矩陣計算確定氣體濃度
網(wǎng)絡(luò)通過以太網(wǎng)實現(xiàn)

PT M06 231 110

技術(shù)參數(shù)

EMC	EN 61326-1
MID 中的測量通道的數(shù)量	128 件
供應(yīng): 電壓	90 – 260 V AC
分辨率，10% 峰值高度時可調(diào)節(jié)	0.5 - 2.5 u
加熱溫度：分析儀	200 攝氏度
安全	EN 61010-1 / IEC 1010
安裝方向	任意
對 Ar 的靈敏度：C-SEM	200 A/mbar
對 Ar 的靈敏度：法拉第	3 · 10-4 A/mbar
對于相鄰物體的輸入：40 比 41	10 百萬分率
峰值比的可再現(xiàn)性	0.5 %
工作溫度：分析儀	150 攝氏度
工作溫度：電氣設(shè)備	0 – 40 攝氏度
探測器	C-SEM/Faraday
接口	Ethernet
Z大工作壓力：C-SEM	1 · 10-5 百帕
Z大工作壓力：法拉第	1 · 10-4 百帕
桿系統(tǒng)：直徑	6 毫米
桿系統(tǒng)：長度	100 毫米
檢測極限：C-SEM (hPa)	2 · 10-14 百帕
檢測極限：Faraday (hPa)	1 · 10-11 百帕
測量速度：MID	2 ms - 60 s/amu
測量速度：掃描條形圖	20 ms - 60 s/amu
測量速度：模擬掃描	20 ms - 60 s/amu
溫度：儲存	-25 – 70 攝氏度
離子源	交叉臂,2 陰極
質(zhì)量范圍	1 – 200 u
輸入數(shù)字	EXT_PROTECTION, 24 V
連接	0°
連接法蘭（入口）	DN 40 CF-F
重量	3.8 千克
陰極	鎢