一、產(chǎn)品簡介

真空爐 微型非自耗電弧爐    DHM-300 主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。

適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌

面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。

真空爐 微型非自耗電弧爐   DHM-300 、產(chǎn)品特點(diǎn)

1、采用高純氬氣保護(hù)，zui高熔煉溫度可達(dá)3500℃

2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少

3、水冷銅電極可移動，可同時熔煉多個樣品

4、水冷銅坩堝可方便拆卸

5、采用真空計(jì)測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力

6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

7、桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源

三、結(jié)構(gòu)簡介

由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和

熔煉電源組成。

1、真空室：采用304機(jī)加工件和厚壁石英管復(fù)合結(jié)構(gòu)，既滿足高真空要求，又便

于觀察實(shí)驗(yàn)情況。

2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負(fù)電極，頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu)，可方便的

在幾個樣品之間移動，密封采用動密封裝置，保證在移動過程中的真空度。

3、水冷銅模：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有一個12*φ25；5個4*φ8樣品鍋，另可根據(jù)客戶要

求定制；

4、氣路系統(tǒng)：由壓力傳感器、電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成，可方便

的實(shí)現(xiàn)手動充放氣，還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣

5、坩堝升降系統(tǒng)：底部水冷銅模可實(shí)現(xiàn)上下升降，帶鎖緊裝置，可非常方便的

進(jìn)出料。

6、機(jī)殼：結(jié)合設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼，外

表噴塑處理；

7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡單，結(jié)構(gòu)小巧；