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PECVD系統(tǒng)等離子化學(xué)沉積VCD石墨烯管式爐

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PECVD系統(tǒng)等離子化學(xué)沉積主要用途:設(shè)備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜
 

PECVD系統(tǒng)等離子化學(xué)沉積主要用途:
設(shè)備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、裝飾等領(lǐng)域。
主要功能和特點(diǎn):
1、 1200℃爐蓋可打開(kāi),可以隨時(shí)觀察加熱的物料,并能迅速降溫,滿足材料驟冷驟熱的實(shí)驗(yàn)需要。
2、 爐膛采用*真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)氧化鋁多晶纖維制成,保溫效果好,耐用節(jié)能, 不掉粉、反射率高、溫場(chǎng)均衡,等特點(diǎn)。
3、1)、加熱元件采用高電阻優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2,高發(fā)熱溫度可達(dá)1200℃。
     2)、加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅碳棒,高發(fā)熱溫度可達(dá)1400℃。
     3)、加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒,高發(fā)熱溫度可達(dá)1700℃。
4、通過(guò)射頻電源實(shí)現(xiàn)輝光放電等方法,產(chǎn)生等離子體。
5、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì),流量顯示儀等組成,實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。
6、爐管采用高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng),熱膨脹系數(shù)極小,能承受驟冷驟熱的溫度;
7、采用KF快速法蘭密封,僅需要一個(gè)卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷,避免了螺栓密封人為操作導(dǎo)致漏氣的可能;減少了因安裝法蘭而造成加熱管損壞的可能;
8、預(yù)留了真空、氣路快速接口,可配合我司真空系統(tǒng)、混氣系統(tǒng)使用;
9、我司可配預(yù)留485轉(zhuǎn)換接口,可通過(guò)我部的軟件,與計(jì)算機(jī)互聯(lián),可實(shí)現(xiàn)單臺(tái)或者多臺(tái)電爐的遠(yuǎn)程控制、實(shí)時(shí)追蹤、歷史記錄、輸出報(bào)表等功能;可安裝無(wú)紙記錄裝置,實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)、輸出;
 產(chǎn)品描述:
該款PECVD系統(tǒng), 可以分為低溫、中溫、高溫三種加熱形式,加熱元件可分為電阻絲(1200℃以下使用)、硅碳棒(1400℃以下使用)、硅鉬棒(1700℃以下使用)等;
PECVD系統(tǒng)主要由供氣系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、射頻電源、真空系統(tǒng)等組成;
1)加熱系統(tǒng)可以分單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)等;
2)真空系統(tǒng)可分為低真空和高真空,高極限真空可以達(dá)到 -4Pa(分子泵組);
3)射頻電源借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中;
4)供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)用戶可選擇質(zhì)量流量計(jì)或浮子流量計(jì),混氣路數(shù)用戶可選2路、3路、4路、5路、6路等相混合(主要根據(jù)客戶工藝要求定制);
PECVD是借助于光放電等方法產(chǎn)生等離子體,光放電等離子體中:電子密度高 9- 12cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出 - 0倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長(zhǎng)的一種新的制備技術(shù)。通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單。
爐底(可選)配安裝一對(duì)滑軌,可用手滑動(dòng)(主要適用于1200℃以下加裝滑軌)??梢赃_(dá)到快速升降溫的目的,為取得快加熱速率,可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度,然后移動(dòng)爐子到樣品區(qū)。可在樣品加熱后移動(dòng)爐子到另一端,實(shí)現(xiàn)快速降溫功能。是高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火用的理想產(chǎn)品。
 

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