爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 返回列表頁

一、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號： KDH-800

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、氣動擋板閥和各種管路

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa

5、熔煉電流：額定電流800a

6、熔煉坩堝 有三個工位：一個熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌，一個吸鑄工位30-100g 一個異型長條工位

7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-120克

8、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧