非自耗真空電弧爐可以做啥材料 返回列表頁(yè)

非自耗真空電弧爐可以做啥材料
一、用途：主要用于將體積較大的金屬和合金熔化成鈕扣形狀的樣品。得到的樣品用于光譜化學(xué)分析和合金研究。
二、應(yīng)用范圍：
1溫度范圍：0-2000°C。（熔化金屬和合金的范圍從鋁（1220°F）和銅（1983°F），到鋼（2600～2800°F），鈦（3040°F），鉻（3380°F）。2701型熔融爐熔化合金溫度可達(dá)3600°F；
2、熔樣時(shí)間：大部分樣品的熔融時(shí)間為1分鐘或更少；大部分的高溫合金樣品的熔融時(shí)間為50 ~ 60秒。
3、樣品要求：一分鐘內(nèi)科融化0-30g樣品。熔融爐可以處理金屬小塊、焊絲、切屑、鉆屑、粉末等形式樣品。小制樣量50克鋼可制成直徑1-¼”（20-25mm）、厚約¼”（6mm）的樣品；
14、升溫方法：電弧熔樣法，強(qiáng)烈的電弧使樣品熔化后充分?jǐn)嚢璨⑿纬稍胤植季鶆虻臉悠罚?/span>
5、樣品保護(hù)：熔融爐使用氬氣保護(hù)熔樣設(shè)計(jì)，以得到潔凈樣品。
6、熔樣坩堝：配有水冷的純銅坩堝，可將樣品熔融制樣
三、KDH-300B小型非自耗真空電弧爐非自耗電弧爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介

　　KDH-300B小型非自耗真空電弧爐非自耗電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)驗(yàn)要求精心研發(fā)的產(chǎn)品主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，廣泛應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬、金屬合金等，適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌面式全不銹鋼設(shè)計(jì)，立體感強(qiáng)，操作方便，占地空間小。

四、KDH-300B小型非自耗真空電弧爐非自耗電弧爐產(chǎn)品特點(diǎn)

　　1、熔煉溫度高，熔煉溫度可達(dá)3500℃

　　2、全不銹鋼設(shè)計(jì)真空腔體小，密封性好，可快速抽真空，快速充氬氣，效率快及氬氣消耗非常少

　　3、水冷銅電極可360度移動(dòng)，操作靈活，同時(shí)水冷坩堝小巧可更換，可定制。

　　4、帶翻料裝置，克服物料單面熔化不勻的局面

　　5、可配置高真空系統(tǒng)，爐體配置有快接接口，方便拆卸

　　6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

　　7、桌面式設(shè)計(jì)，精巧輕便，移動(dòng)靈活

五、KDH-300B小型真空電弧爐非自耗電弧爐結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介

　?。~扣爐）微型電弧爐小型電弧爐由真空室、水冷電極、水冷銅模、氣路系統(tǒng)、坩堝升降系統(tǒng)、機(jī)殼和

　　熔煉電源組成。

　　1、真空室：采用304全不銹鋼結(jié)構(gòu)，質(zhì)感強(qiáng)烈，密封性好，即可高高溫高真空下使用，也可在保護(hù)氣氛下使用

　　2、水冷電極：頂部和底部放分別通有正負(fù)電極，頂部為機(jī)械手結(jié)構(gòu)，可方便的在幾個(gè)樣品之間移動(dòng)，密封采用動(dòng)密封裝置，保證在移動(dòng)過(guò)程中的真空度。

　　3、水冷銅模：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有5個(gè)8*φ25樣品鍋，另可根據(jù)客戶要求定制；

　　4、氣路系統(tǒng)：由壓力表、真空閥、壓力罐、手動(dòng)閥門和管路組成，可方便的實(shí)現(xiàn)手動(dòng)充放氣，還可實(shí)現(xiàn)超壓排氣，保護(hù)真空室安全。

　　5、水冷坩堝系統(tǒng)：底部水冷銅模固定在爐低密封牢固，冷卻性好，也好拆卸，和更換帶吸鑄帶攪拌的多功能坩堝。

　　6、機(jī)殼：結(jié)合國(guó)內(nèi)外設(shè)備外觀經(jīng)驗(yàn)，根據(jù)自身設(shè)備特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出合理機(jī)殼，外表噴塑處理；

　　7、熔煉電源：定制的電弧熔煉電源，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)小巧