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Holo/Or DOE掩膜

高功率掩膜（DOE掩膜）——用于精密控制大功率激光的孔徑，它的結(jié)構(gòu)是在玻璃基板上鍍有一層很?。▇1μm）的圖案反射涂層。

HOLO/OR已經(jīng)開發(fā)了一系列投影掩模，以滿足在UV-VIS光譜中具有很高功率的激光源使用此類掩模的需求。這些掩模具有兩種不同的形式：電介質(zhì)反射掩膜具有阻擋不需要的光的反射涂層，而透射成像掩模模則使用了衍射圖案，該衍射圖案將這種不需要的光以大角度散射。

典型參數(shù)

電介質(zhì)反射掩膜

電介質(zhì)反射掩膜是熔融石英襯底，其上涂有非常?。ā?um）的反射涂層。涂層部分反射入射光束，而未涂層部分透射光束。

典型應(yīng)用

●大功率系統(tǒng)的微圖案投影

●Micro patterns projection for high power systems

●紫外線光刻

●UV lithography

光學(xué)系統(tǒng)示意圖：

圖1.  典型設(shè)置

HOLO / OR可以設(shè)計和制造定制的電介質(zhì)反射掩膜以滿足客戶的需求。

圖2.用顯微鏡放大倍數(shù)對定制電介質(zhì)反射掩膜的真實測量

電介質(zhì)反射掩膜的特點

●高損傷閾值

●High damage threshold

●低吸收

●Low absorption

●反射部分的高反射率（> 99％）

●High reflection (>99%) in reflective part

●透明部分的透射率高（> 95％）

●High transmission (>95%) in transparent part

●極薄的介電反射層（～1 um）

●Very thin dielectric reflective layer (~1 um)

透射成像掩模

透射式掩模的特點是透射全部入射光，沒有任何阻擋，透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。

工作原理：

中心有一個和反射式掩膜類似的透明區(qū)域，光線直接透過，周圍區(qū)域具有衍射圖案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡后焦平面放置的小孔，就可以阻擋大部分漫射光，從而達到阻擋多余激光的效果。

光學(xué)系統(tǒng)示意圖

透射成像掩模的特點

●無反射光危險，不會損壞光學(xué)系統(tǒng)

●No danger of reflected light causing damage to optical system

●約100％傳輸

●~100% transmission

●激光損傷閾值高于反射罩

●Higher laser damage threshold than for reflective mask

●價格合理，與其他衍射元件相似

●Affordable price, similar to that of other diffractive elements

透射掩模元件

測量強度

Holo/Or DOE掩膜?部分產(chǎn)品規(guī)格型號

※For a quotation of an above Part Number, please specify the wavelength used.