紅外線燈管加熱裝置QHC系列 臺式型
紅外線燈管加熱裝置VHC系列 氣氛可變型
溫度升溫速度快,精度高
用途
用氣氛熱處理研究各種基礎材料
高溫氣體的驟冷熱處理。
熱循環(huán)試驗,熱沖擊試驗
半導體材料的燒成,退火條件研究
2英寸硅片的退火條件研究
控制氣氛的氧氣量對超導材料的退火條件研究
●特長
具有寬域的溫度加熱范圍,多種加熱方式。
標準的氣體冷卻控制系統(tǒng),在溫度加熱(保持)后,可容易的控制通入的驟冷及冷卻氣體。 使用選擇部件真空排氣裝置,試樣可在真空,各種氣體,流動氣體中加溫。
●技術指標
型號 | VH,QHC-E410系列 | VH,QHC-E610系列 | VH,QHC-E616系列 |
加熱方式 | 紅外線金面反射爐 | 紅外線金面反射爐 | 紅外線金面反射爐 |
zui高到達溫度 | 1400 ℃ | 1200 ℃ | 1200 ℃ |
常用zui高溫度 | 1000 ℃ | 1000 ℃ | 1000 ℃ |
加熱區(qū) | φ15mm×100mmL | φ50mm×100mmL | φ50mm×150mmL |
均熱區(qū) | φ10mm×80mmL | φ15mm×80mmL | φ40mm×120mmL |
冷卻方式 | 試樣室內(nèi)石英噴嘴式 | ||
加熱室 | 石英φ50mm | 石英φ98mm | 石英φ98mm |
試樣保護管 | 石英 | 石英 | 石英 |
氣體控制器 | 標準裝置 | 標準裝置 | 標準裝置 |
溫度控制器 | TPC系列 | TPC系列 | TPC系列 |
電源容量 | AC200V1φ10KVA | AC200V1φ15KVA | AC200V1φ20KVA |
所要冷卻水 | 8L/min (0.2MPa)以上 | 10L/min (0.2MPa)以上 | 12L/min (0.2MPa)以上 |
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