此套系統(tǒng)硫化物管式爐CVD系統(tǒng)前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發(fā)器，輔助固體源蒸發(fā)，后端為雙溫區(qū)硫化爐，溫度控制精確，操作簡(jiǎn)便。
左端配有法蘭支撐架可將預(yù)熱器和硫化爐分開(kāi)使用。右端可配氣氛微調(diào)裝置，可以準(zhǔn)確的反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)
節(jié)閥對(duì)于做低壓CVD非常實(shí)用，重復(fù)性好；真空機(jī)組裝有真空粉塵過(guò)濾器以保護(hù)機(jī)械式真空泵不被硫粉塵損壞。整套系統(tǒng)可在1200℃

以下的工藝溫度穩(wěn)定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。

設(shè)備組成

硫化物管式爐CVD系統(tǒng)由TF1100蒸發(fā)器，TF1200雙溫區(qū)管式爐，(蒸發(fā)器與高溫反應(yīng)區(qū)采用分體式)，真空機(jī)組，可選浮子或質(zhì)子混氣室組成。

主要技術(shù)參數(shù)

名稱：預(yù)加熱蒸發(fā)器
型號(hào)：TF-1000
工作溫度：室溫-1000℃
設(shè)計(jì)溫度：1050℃
升溫速率：30℃/min
推薦升溫速率：10℃/min
控溫方式：智能化30段可編程控制
工作電壓：AC220 V
額定功率：1000W
控溫精度：±1℃
加熱元件：電阻絲

加熱區(qū)長(zhǎng)度（mm）：150mm

1200度雙溫區(qū)硫化爐 技術(shù)參數(shù)：

名稱：雙溫區(qū)硫化爐

型號(hào)：TF1200
額定功率(KW):3

額定電壓(V):AC220v 50/60 Hz

控溫精度(℃):±1
加熱元件:電阻絲

設(shè)計(jì)溫度(℃)：1200（1 hour）
持續(xù)工作溫度(℃）：1100
升溫速率（℃/min）：≤50
爐管尺寸（mm）：
高純石英管Φ50×1500mm
加熱區(qū)長(zhǎng)度（mm）：150/300mm
恒溫區(qū)長(zhǎng)度（mm）:100/120mm
控溫方式:模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報(bào)警功能

配件
配真空粉塵過(guò)濾器，DN25手動(dòng)蝶閥用于控制爐管內(nèi)壓力，防腐型數(shù)顯真空計(jì)，三路混氣系統(tǒng)（可選）

3路質(zhì)子供氣系統(tǒng)

深V名稱：3路質(zhì)量流量計(jì)混氣室
設(shè)備重量：35Kg
外形尺寸：600x600x650mm
連接頭類型：雙卡套不銹鋼接頭。
標(biāo)準(zhǔn)量程（N2標(biāo)定)：50sccm、200sccm、500sccm； （可根據(jù)用戶要求定制）
準(zhǔn)確度：±1.5%
線性：±0.5～1.5%
重復(fù)精度：±0.2%
響應(yīng)時(shí)間：氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec
工作壓差范圍：0.1～0.5 MPa
設(shè)計(jì)壓力：3MPa
接口：Φ6,1/4''
顯示：4位數(shù)字顯示
工作環(huán)境溫度:5~45高純氣體
內(nèi)外雙拋不銹鋼管：Φ6
壓力真空表：－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止閥：Φ6

低真空機(jī)組技術(shù)參數(shù)：

空氣相對(duì)濕度≤85%，
工作電電壓：220V±10% 50~60HZ
功率：1千瓦
抽氣速率：4L/s
極限真空：4X10-2Pa
實(shí)驗(yàn)真空度：1.0X10-1Pa
容油量：1.1L
進(jìn)氣口口徑：KF25
排氣口口徑：KF25
轉(zhuǎn)速：1450rpm
噪音：50dB
外型尺寸:450×180×240mm
配真空粉塵過(guò)濾器，DN25手動(dòng)蝶閥用于控制爐管內(nèi)壓力，INFICON PCG554復(fù)合真空計(jì)