電爐用途:
此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控
生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
電爐組成:
CVD系統(tǒng)配置:
1、200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。
2、滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。
3、多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4、真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)
電爐特點(diǎn):
1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司的知識產(chǎn)權(quán)設(shè)計(jì),提高操作便捷性。
3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。
4 (電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。
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