沈陽科晶 VTC-300USS型 超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)
儀器概述：
VTC-300USS型 超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)可以精確控制溶液化學(xué)計量比、霧粒噴出速度、霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器控制容積泵精確輸送溶液（溶液可以選擇被加熱）；超聲波霧化器可以制備厚度較薄的微納米涂層，且被固定在可擺動的支撐臂上，以確保涂層的均勻性；可吸附基片尺寸可達(dá)12"（300mm），同時可控制基底溫度（選擇可加熱襯底的烘烤燈），以滿足實驗需要。
噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得廣泛應(yīng)用。
主要技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號 | VTC-300USS 超聲霧化旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī) |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：不需要 4、工作臺：占地面積2m2以上 5、通風(fēng)裝置：需要 |
技術(shù)參數(shù) | 1、輸入電源：208V-240V 50Hz/60Hz 2、旋轉(zhuǎn)涂膜模塊 基片直徑200mm，轉(zhuǎn)速可達(dá)5000rpm；基片直徑300mm，轉(zhuǎn)速可達(dá)3000rpm。 3、超聲霧化模塊 4、注液系統(tǒng) 本司提供多種形式的供液系統(tǒng)（單路、多路、加熱等） |
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