日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
特征
節(jié)省空間的臺式優(yōu)化
快速處理時間
僅AC100V電源
配備定時器設(shè)置處理時間
配備門聯(lián)鎖
配備臭氧處理裝置
無汞燈
內(nèi)置高度調(diào)節(jié)平臺
高性能,簡單的基本設(shè)計。
使用準(zhǔn)分子紫外光源的光學(xué)表面處理可以對薄膜材料等易受熱影響的物體進(jìn)行低溫表面處理,因為由于光源的特性,被照射物體的溫度不易升高。 此外,光化學(xué)反應(yīng)不太可能損壞工件。
應(yīng)用示例
潤濕性、親水性、親和力改善
提高接合表面的附著力
表面改性
有機(jī)物分解、清洗
日本excimer準(zhǔn)分子光學(xué)處理系統(tǒng)E172 -70
基本規(guī)格
產(chǎn)品名稱 | 準(zhǔn)分子紫外光處理機(jī)臺式實驗室規(guī)格 |
型號 | E172-70 |
波長 | 172納米 |
光源 | 艾西米燈 Φ18 x 120 mm |
初始照度 | 20mW/cm2以上 |
連續(xù)照明操作 | 10分鐘內(nèi)(由于重量輕,風(fēng)冷設(shè)計小) |
外部尺寸 | 195(寬)× 380(深) x480(高)毫米※ |
效用 | 電源 AC100V 50/60Hz 2A |
定期更換零件 | 廢氣臭氧分解裝置建議1年或酌情更換 |
定期檢查 | 高壓電源、光源等 5年或視情況而定 |
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