HMDS真空烤箱，MES系統(tǒng)HMDS烤箱主要用途：
     在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS真空烤箱特點(diǎn)：
1、具有MES接口,可連接MES系統(tǒng)；
2、有權(quán)限操作員需掃碼后才可操作此設(shè)備,且自動(dòng)記錄作業(yè)人員；

3、作業(yè)時(shí)掃碼可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)調(diào)取所需作業(yè)程序,作業(yè)員只需確認(rèn)是否正確；自動(dòng)記錄作業(yè)累計(jì)次數(shù)；

4、作業(yè)批號(hào),作業(yè)人員,作業(yè)起止日期及時(shí)間,作業(yè)溫度曲線,作業(yè)條件,可自動(dòng)生成Excel報(bào)表。

MES系統(tǒng)功能：

為企業(yè)生產(chǎn)管理人員進(jìn)行過程監(jiān)控與管理、保證生產(chǎn)正常運(yùn)行，控制產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)成本提供了靈活有力的工具。
1、正確掌握在制品數(shù)量，及不良品的追蹤，降低在制品成本；
2、 用條形碼追蹤產(chǎn)品序號(hào)，提高產(chǎn)品的售后服務(wù)水平；
3、及時(shí)反應(yīng)產(chǎn)品質(zhì)量問題，追溯品質(zhì)歷史，提高產(chǎn)品治理；
4、 大幅減少現(xiàn)場手工作業(yè)，提高現(xiàn)場管理人員的生產(chǎn)力；
5、充分掌握工具、設(shè)備的使用狀況，使制造資源高效運(yùn)作；
6、 強(qiáng)大的統(tǒng)計(jì)報(bào)表為企業(yè)管理決策提供實(shí)時(shí)、準(zhǔn)確、可靠的生產(chǎn)數(shù)據(jù)，提高公司核心競爭力。
HMDS真空烤箱，MES系統(tǒng)HMDS烤箱技術(shù)指標(biāo)：
1、內(nèi)部尺寸(mm)：350*350*350/450*450*450/550*550*65可定制尺寸

2、 材質(zhì)： 外箱采用304不銹鋼或優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)箱采用316L科研級(jí)不銹鋼

3、溫度范圍： RT+10-250℃

4、溫度分辨率：0.1℃

5、 溫度波動(dòng)度： ≤±0.5
6 、真空度： ≤133pa（1torr）

7、 潔凈度： class 100，設(shè)備采用無塵材料，適用100級(jí)光刻間凈化環(huán)境
8、 電源及總功率：AC 220V、380V±10% / 50HZ        

9、 控制儀表：人機(jī)界面
10、 擱板層數(shù)：2層

11、 HMDS控制：可控制HMDS藥液的添加量

12、 真空泵：旋片式油泵或進(jìn)口無油泵
13、 保護(hù)裝置： 低液位報(bào)警，HMDS藥液泄漏報(bào)警，超溫報(bào)警并斷開加熱，超溫保護(hù)，漏電保護(hù)，過熱保護(hù)等