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合肥科晶材料技術(shù)有限公司

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GaAs+AlGaAs+GaAs薄膜

產(chǎn)品二維碼
參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 品牌:
  • 產(chǎn)品類別:其它工業(yè)材料
  • 所在地:合肥市
  • 信息完整度:
  • 樣本:
  • 更新時(shí)間:2025-02-23 12:43:07
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  • 商鋪產(chǎn)品:2205條
  • 所在地區(qū):
  • 注冊(cè)時(shí)間:2023-09-14
  • 最近登錄:2023-09-14
  • 聯(lián)系人:劉蕓
  • 電    話:18256065710
產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品概述: 2英寸直徑、有機(jī)金屬化學(xué)氣相沉積法(MOCVD)沉積在未摻雜的GaAs (半絕緣)(100)晶向基片上的GaAs GaAs / AlGaAs薄膜

詳情介紹
GaAs+AlGaAs+GaAs薄膜


基底:

砷化鎵取向:

(100)

摻雜與絕緣:

未摻雜,半絕緣

晶圓尺寸:

2英寸直徑

電阻率:

1x10^7ohm.cm

拋光:

單面拋光

EPD:

<1x10^4 /cm^2

外延薄膜:

層:

薄膜厚度1.0um  晶格匹配: Al(0.25)Ga(0.75)As: (100)

第二層(最上層):

頂層:GaAs膜厚130nm  GaAS N型號(hào)摻Si

背面:

背面我們可以預(yù)期沉積,但是我們不能保證表面相同的質(zhì)量和粗糙度




















摻雜元素

類型

載流子濃度( cm-3)

流動(dòng)性( cm2/V.Sec)

電阻率( ohm-cm )

EPD(cm-2)

未摻雜

N

7.5-9.5  x1015

4300-4400

1.6E-1-4.5E-1

<>

Sn

N

0.5~1.0 x1018

0.5~1.0 x1018

200 ~ 2400

1500 ~ 2000

0.001~0.002

0.0025~0.007

3~5 x104

Zn

P

0.8~2.0 x1018

2.5~4.0 x1018

2500 ~ 3500

1300 ~ 1600

0.0025~0.006

1~3 x104

Fe

半絕緣

N/A

1550-1640

(2.1-2.7)x107

<>


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