2025年3月11日至13日,備受矚目的慕尼黑上海光博會(LASER Photonics China)在上海新國際博覽中心盛大舉行。此次光博會正值其20周年慶典,吸引了超過1200家展商齊聚一堂,展示面積逾10萬平方米,成為光電技術領域的年度盛會。
本屆展會以“躬耕不輟,智啟新程”為主題,集中展示了激光智能制造、激光器與光電子、光學與光學制造、紅外技術與應用、檢測與質(zhì)量控制等五大主題,同時聚焦熱門的汽車工程、新能源/鋰電、醫(yī)療、消費電子及半導體等應用領域。在這場盛大的科技盛宴中,江蘇集萃中科光電先進光電技術研究所有限公司(以下簡稱“集萃中科光電”)以其卓越的光電技術成果和創(chuàng)新實力,成為展會的一大亮點。
集萃中科光電作為光電技術領域的佼佼者,旨在高端光學組件、高端光學
儀器、智能光電感知三大方向,開展系列關鍵技術攻關與產(chǎn)業(yè)化實踐,目前已形成3D光學
輪廓儀、反射膜厚儀、光致發(fā)光無損檢測儀等標準化產(chǎn)品。公司服務涵蓋光學儀器的研發(fā)、生產(chǎn)及制造一站式服務,同時為客戶提供基于智能光電感知的智慧工廠整體解決方案。
此次參展,集萃中科光電不僅帶來了其自主研發(fā)的
3D光學輪廓儀MTMI100、反射膜厚儀FT100、光譜橢偏儀等產(chǎn)品,還積極與業(yè)界同仁交流探討,共同探索光電產(chǎn)業(yè)的未來發(fā)展方向。
3D光學輪廓儀MTMI100
3D光學輪廓儀MTMI100
3D光學輪廓儀MTMI100能提供高精度的表面形貌測量,可以對各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺階高度、彎曲變形情況等表面形貌特征進行測量和分析。
該款產(chǎn)品還具有無接觸、高精度、快速測量、大面積拼接的特點,提供多種數(shù)據(jù)處理與數(shù)據(jù)分析模式,并支持定制化選項,同時廣泛應用于光學制造、材料科學、機械制造和電子工業(yè)等領域,為用戶提供準確的表面形貌測量解決方案。
反射膜厚儀FT100
反射膜厚儀FT100
反射膜厚儀FT100是超高精度的緊湊型測量系統(tǒng),支持薄膜到厚膜、單層到多層薄膜的膜厚測量;從單點對焦到測量可在1秒內(nèi)全部完成,初學者也能輕松上手;是廣泛用于表征介質(zhì)保護膜、半導體膜、玻璃鍍膜等各種樣式薄膜膜厚的專業(yè)化工具。
產(chǎn)品特點:高精度、高穩(wěn)定性;
采用光學干涉技術,實現(xiàn)無損測量;
配備多類種解析算法,精確測量和模糊估算兼?zhèn)?滿足不同測量場景需要;
高速測量,絕大多數(shù)樣品測量可1s內(nèi)完成測量;
簡潔的軟件界面,提供一鍵式測量操作,簡單易用;
緊湊輕巧的機身設計,便于攜帶。
光譜橢偏儀
光譜橢偏儀
光譜橢偏儀可完成快速多點自動測試,并一鍵測試試片均勻性, 具備自動對焦、光強選擇、相位補償?shù)裙δ?。產(chǎn)品起偏器、檢偏器及補償器均配置絕對編碼型高精度位置鎖定器,具有帶隙補償功能,提升系統(tǒng)精度與穩(wěn)定性。采用雙光纖架構增強收光效率,可從刻蝕酸拋表面或常規(guī)金字塔正面收集足夠的光譜用于測試及分析。
該款產(chǎn)品專為薄膜檢測設計,同時還廣泛應用于半導體領域;特色功能包括可調(diào)控測量點的位置,同時最大可測量100個測量點。產(chǎn)品具備四大核心優(yōu)勢: 操作簡便、測試高速、經(jīng)過廣泛驗證、以及強大的應用拓展性。
在展會現(xiàn)場,集萃中科光電的展位吸引了眾多專業(yè)人士的關注。公司展示了其在光電技術領域的最新突破和創(chuàng)新產(chǎn)品,這些產(chǎn)品不僅體現(xiàn)了集萃中科光電在光電技術研發(fā)方面的深厚底蘊,也展示了其在推動光電產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新升級方面的積極貢獻。參觀者紛紛駐足觀看,對集萃中科光電的技術實力和創(chuàng)新能力表示高度贊賞。
隨著數(shù)字中國戰(zhàn)略的深入實施及元宇宙、人工智能、量子信息等前沿科技的蓬勃發(fā)展,光電技術將迎來更加廣闊的發(fā)展前景。集萃中科光電將緊跟時代潮流,不斷推陳出新,為光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展貢獻更多智慧和力量。
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