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Intel 5nm工藝曝光 效能直追臺(tái)積電2nm

2021-06-09 10:00:15來源：快科技 閱讀量：117 評(píng)論

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導(dǎo)讀：在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上，Intel目前最新的是10nm工藝，已經(jīng)落后于臺(tái)積電、三星。新上任的CEO基辛格決心用幾年時(shí)間重新超越，未來幾年將會(huì)投入200億美元建設(shè)先進(jìn)工藝晶圓廠。

　　在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上，Intel目前最新的是10nm工藝，已經(jīng)落后于臺(tái)積電、三星。新上任的CEO基辛格決心用幾年時(shí)間重新超越，未來幾年將會(huì)投入200億美元建設(shè)先進(jìn)工藝晶圓廠。
 
　　Intel下一個(gè)目標(biāo)是7nm工藝，這幾天的臺(tái)北電腦展上，基辛格稱司已經(jīng)完成7nm Meteor Lake芯片的“Tape-in”。Tape-in在Tape-Out(流片)前，大概是IP模塊完成設(shè)計(jì)驗(yàn)證階段。
 
　　Meteor Lake(流星湖)是Intel第一代7nm客戶端處理器，計(jì)劃2023年開始出貨，7nm數(shù)據(jù)中心處理器Granite Rapids也會(huì)在同年交付。
 
　　再往下就是5nm工藝了，Intel是沒有給出什么明確信息，不過有投行分析師透露了5nm工藝的水平，晶體管密度大約在400MTr/mm2，也就是每平方毫米4億晶體管，差不多是Intel 10nm工藝的4倍了。
 
　　對(duì)比其他廠商呢？專家指出臺(tái)積電的2nm工藝的晶體管密度也就是500MTr/mm2，5億晶體管每平方毫米，雙方的密度差距只有20%左右，Intel 5nm效能與臺(tái)積電2nm差不多。
 
　　但是臺(tái)積電的優(yōu)勢是在成本上，而且量產(chǎn)的時(shí)間也會(huì)更早，畢竟2nm工廠已經(jīng)取得土地，Intel這邊7nm工廠還在建設(shè)中，5nm量產(chǎn)還早。
 
　　原標(biāo)題：Intel 5nm工藝曝光 效能直追臺(tái)積電2nm
 
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