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開(kāi)播時(shí)間04-22 13:48

電子級(jí)鹽酸
英文名:Hydrochloric Acid,分子式HCl,相對(duì)分子質(zhì)量36.46。鹽酸是氫氯酸的俗稱(chēng),是氯化氫(HCl)氣體的水溶液,為無(wú)色透明的一元強(qiáng)酸。鹽酸為不同濃度的氯化氫水溶液,呈透明無(wú)色或黃色,有刺激性氣味和強(qiáng)腐蝕性,易溶于水、乙醇和油等。濃鹽酸為含38%氯化氫的水溶液,相對(duì)密度1.19,熔點(diǎn)-112℃,沸點(diǎn)-83.7℃。3.6%的鹽酸,pH值為0.1。鹽酸具有*的揮發(fā)性,因此打開(kāi)盛有濃鹽酸的容器后能在其上方看到白霧,實(shí)際為氯化氫揮發(fā)后與空氣中的水蒸氣結(jié)合產(chǎn)生的鹽酸小液滴。
在集成電路制作過(guò)程中,基片表面的金屬雜質(zhì)可能會(huì)擴(kuò)散進(jìn)入基片,導(dǎo)致器件的性能下降和成品率的降低。因此在沉積金屬前,確?;砻鏇](méi)有金屬雜質(zhì)是極為重要的。因?yàn)辂}酸能和大多數(shù)金屬反應(yīng)形成水溶性的鹽,然后被水清洗去除,所以使用高純鹽酸進(jìn)行清洗可有效降低金屬雜質(zhì)。除此之外,在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)過(guò)程中,單晶硅和多晶硅也都會(huì)采用鹽酸和HF的混合液進(jìn)行清洗。
EL: 單項(xiàng)金屬雜質(zhì)含量≤100ppb,顆粒(≥0.5um)≤100EA/ml
MOS:?jiǎn)雾?xiàng)金屬雜質(zhì)含量≤50ppb,顆粒(≥0.5um)≤50EA/ml
UP: 單項(xiàng)金屬雜質(zhì)含量≤10ppb,顆粒(≥0.5um)≤25EA/ml
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