Newport用于晶圓和掩膜檢測的運(yùn)動(dòng)控制

Newport用于晶圓和掩膜檢測的運(yùn)動(dòng)控制

MKS 提供了多種高性能的、適用于晶圓檢測工具和其他運(yùn)動(dòng)控制應(yīng)用的空氣軸承位移臺(tái) , 經(jīng)驗(yàn)豐富的 MKS/Newport 應(yīng)用工程師與 OEM 客戶合作，為正在開發(fā)的半導(dǎo)體制造過程提供專門的自動(dòng)化運(yùn)動(dòng)控制解決方案，下文描述這些系統(tǒng)中用于提高精度和動(dòng)態(tài)性能的技術(shù)。

IDL 工業(yè)精密定位平臺(tái)是為高動(dòng)態(tài)性能而開發(fā)的，其標(biāo)準(zhǔn)版本可在構(gòu)建 XY 系統(tǒng)時(shí)加快響應(yīng)速度。該平臺(tái)采用鋁結(jié)構(gòu)，結(jié)合了機(jī)械軸承、直線電機(jī)、直線編碼器和集成電纜管理，以提供可靠和準(zhǔn)確的定位精度。XY 堆疊的 IDL 運(yùn)動(dòng)平臺(tái)用于自動(dòng)光學(xué)檢測系統(tǒng)的優(yōu)勢是顯而易見的，有多種行程組合可選。
 

IDL 工業(yè)精密定位平臺(tái)

CeraMech 碳化硅陶瓷位移臺(tái)是一種高性價(jià)比 XY 位移臺(tái)，其采用陶瓷結(jié)構(gòu)和機(jī)械軸承，無需使用空氣軸承導(dǎo)軌即可實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的性能。陶瓷平臺(tái)的剛性和穩(wěn)定性是鋁合金平臺(tái)的 3 倍。MKS/Newport 開發(fā)了*的制造技術(shù)來確保表面的平整度和穩(wěn)定性，可以實(shí)現(xiàn)陶瓷位移臺(tái)高動(dòng)態(tài)性能的掃描以及步進(jìn)應(yīng)用。

CeraMech XY 碳化硅陶瓷位移臺(tái)

HybrYX 混合空氣軸承 - 機(jī)械軸承XY位移臺(tái)，是一種成本相對(duì)較低、單平面、空氣軸承平臺(tái)， 非常適用于半導(dǎo)體晶圓或面板檢測系統(tǒng)，以及許多其他需要超低速度波動(dòng)和動(dòng)態(tài)跟蹤誤差（即任意時(shí)間點(diǎn)當(dāng)前位置與理想或理論位置設(shè)定值之間的差值）的掃描應(yīng)用。平臺(tái)的Z向、傾斜、俯仰、旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié)選項(xiàng)可以允許精調(diào)晶圓或面板，以用于復(fù)雜的XY運(yùn)動(dòng)。HybrYX 系統(tǒng)運(yùn)行可靠且壽命長，非常適合于高占空比環(huán)境如晶圓檢測應(yīng)用等。例如，HybrYX 300 是一款高性價(jià)比的混合滾珠軸承和空氣軸承平臺(tái)，針對(duì)晶圓片檢測優(yōu)化，掃描速度高達(dá)1m/s, 速度穩(wěn)定性小于 0.1%；超過 300mm 行程內(nèi)的平面度為±250 nm，XY方向的定位精度為 ±250 nm。

HybrYX 混合空氣軸承 XY 位移臺(tái) 

DynamYX 系列位移臺(tái)具有商用產(chǎn)品中高的水平定位性能，專為 300 mm 晶圓加工和檢測應(yīng)用而設(shè)計(jì)，大量使用陶瓷材料來提供良好的剛性結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，且產(chǎn)品設(shè)計(jì)很輕薄，適合用于OEM 應(yīng)用。

DynamYX 系列位移臺(tái)

DynamYX 掩膜定位空氣軸承位移臺(tái)設(shè)計(jì)用于掩膜板的檢測和修復(fù)應(yīng)用。DynamYX RS 級(jí)位移臺(tái)比傳統(tǒng)的開放式解決方案封裝要小得多，并且有一個(gè)全開的孔徑，可靈活地集成光學(xué)組件并易于維修服務(wù)。其前端采用一個(gè)剛性且穩(wěn)定的陶瓷支架，以確保在掩膜檢測和/或修復(fù)過程中的高度穩(wěn)定和清潔。

DynamYX 掩膜定位位移臺(tái) 

DynamYX 中DATUM系列位移臺(tái)也適用于晶圓片檢測，他們對(duì)晶圓的清潔度要求符合ISO 2級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，掃描速度高達(dá) 1 m/s，同時(shí)滿足以下指標(biāo)：動(dòng)態(tài)立體 XYZ 抖動(dòng)誤差 ±30 nm, 當(dāng)晶圓直徑 300 mm 內(nèi)平面度可達(dá) ±150nm，XY 方向的定位精度達(dá) ±100 nm。 
如果激光光源與工具分開放置，運(yùn)動(dòng)控制器件也用于控制光束傳輸，例如，MKS/Newport 的快速轉(zhuǎn)向鏡 (FSM) 使用反饋回路和電動(dòng)鏡架來控制激光束的位置。在研發(fā)應(yīng)用中，這可用于兩個(gè)獨(dú)立的氣浮平臺(tái)之間的光束穩(wěn)定。在制造應(yīng)用中，當(dāng)激光源與工具相距較遠(yuǎn)時(shí)，F(xiàn)SM可用于潛望鏡配置，光源上的反射鏡 ( 用于角度校正 ) 和工具上的反射鏡 ( 用于位置校正 ) 可以控制進(jìn)入工具光束的所有維度。

森泉為您的科研事業(yè)添磚加瓦：

1）  激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等

2）  探測器：光電探測器、單光子計(jì)數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等

3）  定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、多維位移臺(tái)、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、微型操作器等等

4）  光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等

5）  光機(jī)械件：用于光路系統(tǒng)搭建的高品質(zhì)無應(yīng)力光機(jī)械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等

6）  光學(xué)平臺(tái)：主動(dòng)隔振平臺(tái)、氣浮隔振臺(tái)、實(shí)驗(yàn)桌、剛性工作臺(tái)、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等

7）  光學(xué)元件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等

8） 染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等