真空熔煉噴鑄甩帶一體爐真空甩帶爐用途：

真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，也叫高真空旋淬設(shè)備，真空甩帶機(jī)、甩片爐，既適用于科研開發(fā)又適用于小型生產(chǎn)

真空熔煉噴鑄甩帶一體爐設(shè)備原理

在高真空或惰性氣體保護(hù)氣氛下,利用感應(yīng)加熱或者電阻輻射加熱將坩堝內(nèi)樣品加熱至熔融狀態(tài)后，通過氣壓噴射在高速旋轉(zhuǎn)的銅輪或者鉬輪表面上快速凝固形成非晶或者微晶條帶；

設(shè)備特點：

1·熔化速度快，10分鐘內(nèi)可完成樣品測試

2·溫度范圍廣：500-1700、800-2000，1000-2400℃

3·容量可定制，從5g到50Kg都可實現(xiàn)

4·線速度可調(diào)節(jié)可實現(xiàn)0~70米/秒的調(diào)節(jié)

5·真空配置可選擇10Pa ~10-5Pa。

6·樣品冷卻速率:10⁵-10⁶K/S ;

7·條帶厚度及寬度可調(diào):20- 60微米，寬度:1-100毫米（取決于坩堝噴口規(guī)格）；

8·調(diào)速電機(jī)采用伺服電機(jī)配置磁流體驅(qū)動結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)緊湊密封可靠；

9· 可在多種氣氛條件下熔煉：真空、真空+氣氛、保護(hù)氣氛條件。

10· 帶觸摸屏 plc，可直觀觀察各個部件的操作流程，查看存儲數(shù)據(jù)及工藝

11· 爐體全不銹鋼結(jié)構(gòu)，并帶水冷，保證外殼溫度低于35℃

應(yīng)用材料范圍

1·新型稀土永磁材料

2·非晶軟磁材料

3·納米材料科學(xué)的開發(fā)和研究

4·高熵合金 金屬合金，混合材料

5、非金屬及電池材料的開發(fā)

三、主要技術(shù)參數(shù)

1.產(chǎn)品型號：KSDG-0.05

2.供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 15KW

3.甩帶樣品熔煉量：10-50g;（注：用于做帶狀非晶）

4.輥輪尺寸：  φ200mmx40mm  φ240mmx40mm(可根據(jù)需要定制）

5.單棍旋轉(zhuǎn)裝置（甩帶）：銅棍速度：1-3000r/min;

6. 甩帶升降：甩帶升降采用伺服電動升降.

7.噴鑄容量：10-50g （注：用于做小塊非晶棒料，板料）                   

8. 感應(yīng)熔煉容量：20-500g

9.極限真空度：6.7x10^-4Pa

10.甩帶熔煉電源功率：15KVA 30-80KHz 220V

11.熔煉溫度：500℃-1700℃，配紅外測溫

14.熔煉坩堝：石英、BN 根據(jù)需要配置不同材質(zhì)

15.條帶寬度：1-10mm 寬，厚度 ≥20μm