離子濺射/蒸碳一體機(jī) 濺射蒸碳儀
型號(hào)：GH/ETD-2000C
- 技術(shù)參數(shù)
北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）
- 北京離子濺射/蒸碳一體機(jī)主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
- 儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。- 技術(shù)參數(shù)
配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）- 主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
- 儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。- 技術(shù)參數(shù)
配置參數(shù)如下：
- 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
- 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
- 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 樣品臺(tái)： 50mm (D)
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
- 濺射電流： 0-50mA
- 濺射定時(shí)： 1-9999S
- 蒸碳電流 0-10A(AC)
- 真空泵： 4升兩級(jí)機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）- 主要特點(diǎn)
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴(kuò)展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實(shí)驗(yàn)室樣品制備。
- 儀器介紹
ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。同時(shí)增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
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