狹縫擠出式涂布機(jī)粘度范圍：1-20000cps應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

多種薄膜沉積設(shè)備，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。詳細(xì)介紹請登陸公司網(wǎng)頁。http://www.cross-tech.com...

臺(tái)式磁控濺射儀該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：1，研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異2，具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快4， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的工具

多功能磁控濺射儀，PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。詳細(xì)介紹請登陸公司網(wǎng)頁。

金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（MOCVD）其反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要。系...

超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式（預(yù)留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機(jī)械泵+分子泵，或冷凝...

有機(jī)分子束沉積系統(tǒng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etch...

在線量產(chǎn)型磁控濺射系統(tǒng) 在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 高轉(zhuǎn)換效率· 大容量吸收，電池可靠性長達(dá)10年抗輻射

離子束刻蝕系統(tǒng)離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性 反應(yīng)刻蝕 生物醫(yī)藥傳感器

PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積該系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻（RF...

反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（美國產(chǎn)，高性價(jià)比）-聚合物或光阻的等溫各向同性干刻-硅片或玻璃表面清潔-硅表面氧化去除

涂布機(jī) / 膠印機(jī) （研發(fā)型）粘度范圍：1-20000cps應(yīng)用襯底：玻璃， PET聚酯， 紙張幅寬： 90mm, 120mm, 300mm

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等...

磁控濺射系統(tǒng)專業(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OM...

基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)The polymer material will then deposit on the substrate while the so...