賽黙飛世爾量色散X熒光光譜儀（原美國熱電）（ED XRF）儀器介紹　　　　　　

＊端窗超高通量RH靶，76um鈹窗，空氣冷卻
＊*的大面積高厚度硅鋰Si(Li)檢測(cè)器
＊賽黙飛世爾量色散X熒光光譜儀（原美國熱電）（ED XRF）擁有全數(shù)字化譜分析器 32bit 4096通道
＊高穩(wěn)定性：RSD<0.3% 8小時(shí) 
＊檢測(cè)元素：F~U

技術(shù)參數(shù)

樣品室：樣品類型 固體、粉末、液體、濾渣、鍍層和其它 
尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H) 
增高室(選購件): 21.5cm或37.1cm 
單位盤 樣品可大至樣品室大小 
10位盤(選購件) 帶自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，樣品可大至47mm 
20位盤(選購件) 樣品可大至31mm 
自動(dòng)和手動(dòng)盤 為特種樣品的樣品盤，選購件 
環(huán)境 空氣、真空(選購件)和充氦(選購件) 

激發(fā)（核心元件）：
X-光管：超高通量，端窗，RH靶，76um鈹窗，空氣冷卻，其它靶可選 
X-光發(fā)生器 4-50KV，1KV間隔。O.02-2.OmA,0.02mA 間隔 
濾光片 7種濾光片加1空位，自動(dòng)選擇 
準(zhǔn)直器(選購件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五種 

X射線檢測(cè)配置器（核心元件） 
類型：Si(Li)硅鋰
晶體面積： 
Si(Li)面積15mm²，分辨率<155 eV 
Si(Li)LN Si(Li)面積30mm²，分辨率<149 eV 
晶體厚度： 3.5mm
檢測(cè)元素：F~U

制冷方式：電致冷/液氮致冷 
穩(wěn)定性：RSD<0.3% 8小時(shí)
靈敏度：Fe, Pb <3pmm（油）
再現(xiàn)性：RSD<0.3%/1x10負(fù)6次方計(jì)數(shù)

譜處理器（核心元件）
處理器類型：全數(shù)字話 32bit 3 DSP
譜通道：2048 20eV/通道
修正時(shí)間：1~40ms, 用戶選擇
計(jì)數(shù)率：>100,000cps (live)
能量范圍：400~4096eV
死時(shí)間影響：<3.0%
重疊校正：<0.3%
能量校正：軟件自動(dòng)

尺寸和重量 
外形尺寸 寬71.88cm，高41.15cm，深59.18cm 
重量 90.7kg 

使用要求 
電源 100、115或230VAC,50或60hz，功率1000W，真空泵需2000W 
遙控診斷和遙控監(jiān)測(cè)需要通過因特網(wǎng)連線 

環(huán)境要求 
溫度 O～32℃ 
濕度 20～80％RH(無冷凝水)