一、真空懸浮熔煉爐的用途：

真空懸浮熔煉爐是近些年來(lái)飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來(lái)制取高熔點(diǎn)、高純度和極活潑的金屬，在冶金和材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備特點(diǎn)

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無(wú)接觸冶煉，干凈無(wú)污染。

2·冶煉溫度高，溫度可達(dá)2500甚至以上，專門應(yīng)用于高熔點(diǎn)難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮專用IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級(jí)分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達(dá)5.0*10-5pa。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：65Kw

2、容量（以鈦計(jì)）：0.25Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa

四、質(zhì)量保證

1·出廠安裝調(diào)試實(shí)現(xiàn)服務(wù)；安裝好后客戶可直接使用。

2·設(shè)備出廠安裝調(diào)試驗(yàn)收后質(zhì)量保修期為12個(gè)月份，終身維修，一年后收取適當(dāng)費(fèi)用。

3·服務(wù)期內(nèi)如用戶有報(bào)修通知，3 小時(shí)內(nèi)電話指導(dǎo)，如電話指導(dǎo)用戶不能自選排除即在2個(gè)工作日內(nèi)安排人員。