微流控芯片光刻機專業(yè)為微流控芯片制作而設計,用于刻劃制作微結構表面,全自動化和可編程操作,適合幾乎所有常用材料。
微流控芯片光刻機采用多功能一體化設計理念,一臺光刻機具有六個傳統(tǒng)單一的表面刻劃機器的功能,而且不需要無塵環(huán)境,用戶安裝使用不再需要單獨建設超凈間,從而大大提高用戶的使用經(jīng)濟性和方便性。
微流控芯片光刻機特色
可以根據(jù)用戶的芯片襯底基片尺寸,形狀和厚度進行調(diào)節(jié)。
微流控芯片光刻機采用多功能一體化設計理念,一臺光刻機具有六個傳統(tǒng)單一的表面刻劃機器的功能,而且不需要無塵環(huán)境,用戶安裝使用不再需要單獨建設超凈間,從而大大提高用戶的使用經(jīng)濟性和方便性。
微流控芯片光刻機特色
可以根據(jù)用戶的芯片襯底基片尺寸,形狀和厚度進行調(diào)節(jié)。
是一種無掩模光刻系統(tǒng),具有兩個易操作的軟件,用戶可以創(chuàng)建個人微結構圖案,從單個微通道到復雜的微觀結構都可以創(chuàng)建。
具有技術突破性設計和靈活性優(yōu)勢,非常適合加工微納結構用于MEMS,BioMEMS,微流控系統(tǒng),傳感器,光學元件,MicroPatterning微圖案化,實驗室單芯片,CMOS傳感器和所有其他需要微結構的應用。
更多光刻機請看:/guangkeji.html
無掩模光刻系統(tǒng)可以快速而輕松地做出許多種微圖案結構,從到非常復雜的都可以。它的寫入磁頭裝備有一個激光二極管(波長405納米- 50毫瓦),光學掃描器和F-θ透鏡(405納米)。激光束根據(jù)設定微結構圖案而運動。具有技術突破性設計和靈活性優(yōu)勢,非常適合加工微納結構用于MEMS,BioMEMS,微流控系統(tǒng),傳感器,光學元件,MicroPatterning微圖案化,實驗室單芯片,CMOS傳感器和所有其他需要微結構的應用。
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為了方便使用,較好的再現(xiàn)性和較高的質量,焦距是可以根據(jù)基片厚度進行調(diào)節(jié)的。圖像采集期間可以使用控制面板調(diào)節(jié)焦距。幾個基片厚度都可以使用。
編程參數(shù)被保存以供以后使用,修改或其他用戶使用。
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