高壓分析儀 HPA 220
德國普發(fā)真空pfeiffer vacuum殘余氣體分析儀HPA 220, 1-200 amu
在壓力范圍高達 50 hPa 下的氣體分析
高壓分析儀 HPA 220 是一個模塊化、靈活實用的質譜儀系統(tǒng),它帶有一個干式渦輪分子泵組,可用于在壓力高達 50 hPa 的真空中進行氣體分析。
根據 HPA 220 的用途,有五種不同電動氣動以及手動操作的進氣口閥可供選擇。
產品優(yōu)勢
由于其 5 種手動、電動氣動操作的進氣口選擇,使得它在壓力高達 50 hPa 壓下為分析、監(jiān)測和控制過程提供了很大的靈活性。
通過各種數字和模擬輸入和輸出,使系統(tǒng)集成方便而靈活。
多重操作允許多個質譜儀 系統(tǒng)只用一臺電腦進行數據評估。
緊湊的尺寸實現(xiàn)靈活的集成。
應用
在 1 · 10-7 至 50 hPa 的壓力范圍內進行真空工藝的分析、監(jiān)測和控制
真空鍍膜系統(tǒng)的制造商和操作員
半導體生產
光刻
冶金
真空爐
研發(fā)
HPA 220, 1-200 amu
高壓分析儀——在 1-200amu 范圍內的氣體分析
產品描述
靈活性高,用于工藝分析、工藝監(jiān)控、工藝檢查的 5 個手動或電氣動操作進氣選項,Z高 50 hpa
由多樣化的數字和模擬輸入輸出所帶來的便捷靈活的系統(tǒng)集成
多樣化運行方式實現(xiàn)了通過一臺 PC 即可進行多個質譜儀系統(tǒng)的數據分析
適用于靈活性集成的緊湊尺寸
產品
HPA 220,用于壓力Z高 8 hPa 的操作壓力,HPI 040 H,手動操作 (PT M52 110)
HPA 220,用于壓力Z高 8 hPa 的操作壓力,HPI 040 P,電動氣動驅動 (PT M52 120)
HPA 220,用于壓力Z高 1 hPa 的操作壓力,雙閘閥,手動操作 (PT M52 130)
HPA 220,用于壓力Z高 1 hPa 的操作壓力,雙閘閥,電動氣動驅動 (PT M52 140)
HPA 220,用于壓力Z高 50 hPa 的操作壓力,UDV 040,手動操作 (PT M52 150)
HPA 220,用于壓力Z高 1 hPa 的操作壓力,雙閘閥,手動操作
概述
HPA 220,高壓分析儀,測量范圍 1-200 amu、115-230 V、50/60 Hz,適用于壓力范圍 0.5 hPa > p > 1 · 10-7 hPa 內的工藝及殘余氣體分析,組成:
帶四極電子裝置 QME 220 的 PrismaPlus,帶開放式離子源和兩根銥長絲、氧化釔涂層的四極分析儀 QMA 200 M
雙閘閥,手動操作,連接法蘭 DN 40 CF-F,帶 0.1 mm 交換式隔板的滑閥
帶電源件 TPS 311 和用于外部訪問的遠程接口的系統(tǒng)控制系統(tǒng) BRU 220
帶 HiPace 80 和前級真空泵 MVP 020-3 DC 的渦輪分子泵設備
總壓測量管 PKR 251
電纜組,3 米
適用于 Windows 7, XP Professional (32 位)的 Quadera®軟件,用于參數化 PrismaPlus 系統(tǒng),以及記錄、保存并說明測量數據
技術參數
623-Valve interface with orifices ? 0.1 mm und 0.3 mm | 雙閘閥,手動操作 |
供應 | 115-230 V |
分析儀 | QMA 220 |
前級泵 | MVP 020-3 |
壓縮空氣 | 5-7 bar |
四極控制 | QME 220 M |
對 Ar 的靈敏度:C-SEM | 200 A/hPa |
對 Ar 的靈敏度:法拉第 | 3 · 10-4 A/hPa |
探測器 | C-SEM/Faraday |
桿系統(tǒng):材料 | 不銹鋼 |
桿系統(tǒng):直徑 | 6 毫米 |
桿系統(tǒng):長度 | 100 毫米 |
檢測極限:C-SEM (hPa) | 1 · 10-14 百帕 |
檢測極限:Faraday (hPa) | 1 · 10-11 百帕 |
渦輪泵 | 帶有 TC 110 RS 的 HiPace 80 |
電纜長度 | 3 米 |
系統(tǒng)控制 | BRU 200 |
質量范圍 | 1 – 200 u |
軟件 | Quadera® |
過程壓力至 | 1 百帕 |
連接法蘭(入口) | DN 40 CF-F |
重量:分析儀 包括渦輪 | 15 千克 |
閥控制單元 | VCU 220 |
尺寸
B
290 毫米
C
380 毫米
D
446 毫米
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