詳情介紹：
蝕刻裝置 用于光學(xué)器件和 MEMS 的
用于光學(xué)器件和 MEMS 的
干法蝕刻設(shè)備NLD-5700
用于光學(xué)器件和 MEMS 的干法刻蝕設(shè)備 NLD-5700 是配備磁中性線(xiàn)等離子體 (NLD) 源的量產(chǎn)干法刻蝕設(shè)備。（使用 ULVAC *初開(kāi)發(fā)的磁中性線(xiàn)等離子體 (NLD) 配備低電壓、低電子溫度和高密度等離子體的干法蝕刻設(shè)備。）
特征
- 通過(guò)在無(wú)塵室工作，可擴(kuò)展至 2 個(gè)房間（NLD、磁場(chǎng) ICP、CCP 和灰化室）。
- NLD是一種可以控制空間和時(shí)間的等離子體，所以干洗很容易。
- 實(shí)現(xiàn)輕松的腔室維護(hù)。
- 我們提供從掩模蝕刻到石英/玻璃蝕刻的工藝解決方案。
- 由半導(dǎo)體技術(shù)研究院提供的完整工藝支持體系。
采用
- 光學(xué)器件（衍射柵、調(diào)制器、光波導(dǎo)、光開(kāi)關(guān)等）、凹凸微透鏡。
- 流體路徑創(chuàng)建 (μ-TAS) 和光子晶體。
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