XLNCE SMX-BEN 臺(tái)式能量色散X射線熒光分析儀（EDXRF）為工藝開發(fā)、過程控制和質(zhì)量保證等領(lǐng)域提供無損檢測(cè)、薄膜層厚和成分的測(cè)量手段。是研發(fā)工作和失效分析中的分析方法。它能促進(jìn)在前期或早期生產(chǎn)階段的材料選擇和配方制定，并支持加工平臺(tái)工具以及產(chǎn)能生產(chǎn)。

• 提供一系列可選擇的X射線光源和初級(jí)濾片
• 配備一代的硅漂移探測(cè)器
• 為簡(jiǎn)易校準(zhǔn)過程提供經(jīng)驗(yàn)值和基本參數(shù)解決方案
• 超大分析樣品室
• X-Y-Z可編程定位

特殊應(yīng)用領(lǐng)域：

• 光伏制造
• 金屬涂層
• 晶圓級(jí)金屬化和微電子
• 腐蝕/磨損和熱障分析

XLNCE SMX-BEN提供了的多樣化分析和超高的性價(jià)比。