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低壓化學氣相沉積（LPCVD）

產(chǎn)品二維碼
參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號：
  • 品牌：
  • 產(chǎn)品類別：其它
  • 所在地：深圳市
  • 信息完整度：
  • 樣本：
  • 更新時間：2024-10-10 18:47:11
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深圳海創(chuàng)德科技有限公司

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  • 經(jīng)營模式：其他
  • 商鋪產(chǎn)品：71條
  • 所在地區(qū)：
  • 注冊時間：2017-07-03
  • 最近登錄：2024-04-13
  • 聯(lián)系人：瞿經(jīng)理
產(chǎn)品簡介

低壓化學氣相沉積(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積

詳情介紹


低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在較低氣壓下環(huán)境進行薄膜沉積，可進行大面積小批量樣品沉積。


技術(shù)參數(shù)：

1 基片尺寸可定制，可達10 英寸；

2 加熱溫度 1700 ℃，單溫區(qū)或者多溫區(qū)可選；

3 最多可配置6路工藝氣體；

4 配備油泵或者干泵，可選配分子泵；

5 樣品水平，垂直兩種配置模式；

6 可小批量量產(chǎn)；


應(yīng)用領(lǐng)域：

LPCVD

退火

擴散

氧化

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