快速退火爐 返回列表頁(yè)

基于PID處理控制器的Solaris GUI可以存儲(chǔ)程序，每套程序可以支持高達(dá)100個(gè)步驟的設(shè)定，帶USB2.0的接口。包含Solaris GUI 軟件，與微軟Windows操作系統(tǒng)兼容。通過該軟件，通過鏈接電腦可以非常方便地實(shí)現(xiàn)程序編輯以及數(shù)據(jù)記錄。

技術(shù)規(guī)格：

- 溫度：1200攝氏度；

- 升溫速率：150攝氏度/秒；

- 溫控均勻性：±2.5℃設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)?，頂部及底部區(qū)域加熱；

- 處理時(shí)間：0.1秒至無*；

- 燈管數(shù)量及功率：13支，

- 腔體冷卻：風(fēng)冷方式；

- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/span>

- 工藝氣路：MFC控制，多6路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?/span>)；

應(yīng)用領(lǐng)域：

快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

擴(kuò)散 (Diffusion);

化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);

離子注入后退火 (Implant Annealing);

電極合金化 (Contact Alloying);

晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);