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詳細介紹制樣機的測試原理和操作注意事項2022/5/18
制樣機是指可以制作各種規(guī)格的力學(xué)拉伸試樣條，采用全自動CNC數(shù)控系統(tǒng)控制，操作簡便，自動切割樣條，切割精度高，速度快，制作的試樣形狀不受機器限制，只要提供程序，可以制作各種形狀的試樣，條形、啞鈴型、圓...
MC方案｜AFM探針應(yīng)該如何清洗呢？2022/5/18
目前，越來越多的原子力顯微鏡被引入到各項研究中，但是相信很多科研人員會發(fā)現(xiàn)，做了幾次樣品后，針尖或者懸臂梁總會有東西粘附上去了，圖像質(zhì)量和原來的形貌出入太大，沒有多少細節(jié)，甚至出現(xiàn)雙針尖現(xiàn)象，這個時候...
MC方案｜如何快速無損測量多層鈣鈦礦薄膜厚度？2022/5/18
鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發(fā)。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽能電池性能的重要因素。人們發(fā)現(xiàn)，特別當鈣鈦礦的厚度小于400nm...
MC方案｜如何從SU-8模具上進行PDMS光刻復(fù)制？2022/5/18
PDMS是一種有機聚合物材料，廣泛應(yīng)用微流控芯片實驗室。今天我們來介紹有關(guān)如何進行PDMS光刻復(fù)制，也稱為軟光刻工藝，為您提供一些實驗中的小技巧，優(yōu)化您的實驗結(jié)果。01硅烷化模具的制備*使用模具時，必...
MC方案｜MEMS應(yīng)用中懸浮活性硅膜厚度測量2022/5/18
懸浮活性硅膜厚度測量，適用于MEMS微機電系統(tǒng)應(yīng)用，光斑尺寸為25um。簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應(yīng)用于不同的MEMS微機電系統(tǒng)。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性...
MC方案｜MEMS應(yīng)用中懸浮活性硅膜厚度測量2022/5/18
懸浮活性硅膜厚度測量，適用于MEMS微機電系統(tǒng)應(yīng)用，光斑尺寸為25um。簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應(yīng)用于不同的MEMS微機電系統(tǒng)。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性...
MC方案｜光刻膠旋涂曲線如何獲得？2022/5/18
旋涂曲線（spincurve）是光刻膠重要參數(shù)之一，他給我們選擇光刻膠提供了重要的指導(dǎo)意義。所以我們來介紹一下什么是旋涂曲線？怎樣使用旋涂曲線？如何獲得旋涂曲線？什么是光刻膠旋涂曲線？顧名思義，光刻膠...
MC方案｜如何快速準確地測定光刻膠的對比度曲線？2022/5/18
納米制造使用光刻工藝(193nm，EUV，EBL等)涉及廣泛的材料、技術(shù)和相關(guān)的處理步驟，以便生產(chǎn)明確的納米結(jié)構(gòu)。光刻膠的光刻對比曲線是工藝優(yōu)化常用的參數(shù)之一。光致抗蝕劑的對比度曲線是顯影后剩余的抗蝕...
MC方案｜等離子處理中哪種頻率效果好？2022/5/18
等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？KHz，中頻產(chǎn)生等離子體能量大，主要是物理作用；MHz，射頻產(chǎn)生等離子體能量和密度居中,為物理和化學(xué)作用；GHz，微波產(chǎn)生等離子體能量小，密度高，主要為化...
MC方案｜鈣鈦礦太陽能電池制備指南2022/5/18
本篇介紹了使用I101鈣鈦礦前體油墨的鈣鈦礦太陽能電池制備過程，該油墨用于底部ITO/PEDOT：PSS陽極和頂部PC70BM/Ca/Al陰極。ITO/PEDOT：PSS/CH3NH3PbI3-xCl...
如何實現(xiàn)納米級清洗？2022/5/18
具有可控和可調(diào)節(jié)表面化學(xué)性質(zhì)的清潔表面對于改善材料的界面，生物和電子性能，以獲得Zjia的設(shè)備和結(jié)構(gòu)性能至關(guān)重要。等離子體表面處理可去除納米級有機污染物，并在不影響整體材料的情況下改變表面化學(xué)性質(zhì)。等...
MC應(yīng)用｜TMAH和KOH，誰更適合濕法刻蝕？2022/5/18
硅的各向異性濕法腐蝕是一種常用的制造微機械結(jié)構(gòu)的體硅微加工技術(shù)，因為其實現(xiàn)相對容易，成本也相對低廉。而且，在大多數(shù)工藝中不需要消耗電力資源。在這一過程中，其反應(yīng)為：Si+4H2O-Si(OH)4+2H...
MC方案｜RIE / ICP干法蝕刻工藝案例2022/5/18
ICP/RIE蝕刻應(yīng)用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：SiO2/SiN蝕刻80scc...
MC方案｜如何設(shè)計制作微透鏡陣列？2022/5/18
“納米壓印技術(shù)”展示了通過在溫度和壓力控制的印刷過程中使熱塑性材料物理變形來執(zhí)行低于100nm平行光刻的能力。使用通過電子束光刻和干刻蝕圖案化的硅壓模來實現(xiàn)。這項技術(shù)的優(yōu)點在于，可使用具有納米圖案的硅...
MC應(yīng)用｜微納加工中的等離子處理和勻膠旋涂2022/5/18
結(jié)合使用等離子處理和旋涂，研究人員可以獲得具有更高穩(wěn)定性和性能的均勻材料涂層。等離子體處理通過引入含有親水性氧的官能團來改變表面化學(xué)性質(zhì)。極性基團使基材可潤濕，并且能夠更好地與水溶液相互作用。等離子處...
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