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KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列
PDMS微流控芯片制作系統(tǒng) EasyPDMS
圖片
簡(jiǎn)介
PDMS微流控芯片制作系統(tǒng) EasyPDMS PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝:① 清洗;② 勻膠;③ 曝光光刻;④ 顯影;⑤ 烤膠;⑥ PDMS成型;⑦ 等離子表面活化處理;⑧ 鍵合;⑨ 打孔。PDMS微流控芯片制作系統(tǒng) EasyPDMS制作系統(tǒng)可以提供完成以上各工藝流程的整套系統(tǒng)或單個(gè)設(shè)備。
用戶可以根據(jù)自己的需求從設(shè)備列表中選取所對(duì)應(yīng)工藝的設(shè)備,同時(shí),我們也提供PDMS芯片制作實(shí)驗(yàn)室的整體方案設(shè)計(jì)和搭建服務(wù),從潔凈間設(shè)計(jì)到實(shí)驗(yàn)室布局,再到設(shè)備選擇,以及用戶采購后的安裝調(diào)試及培訓(xùn), 客戶只需要提出需求,我們提供一整套服務(wù),可以做到交鑰匙工程。
工藝及設(shè)備對(duì)應(yīng)表格:
工藝名稱 | 設(shè)備儀器名稱 | 型號(hào) |
清洗 | 等離子清洗機(jī) | CUTE |
超聲清洗機(jī) | 市售標(biāo)準(zhǔn)型號(hào) | |
勻膠 | 勻膠顯影機(jī) | SC100 |
PDMS成型機(jī) | ZentriForm | |
曝光光刻(2選1) | 曝光機(jī) | UV-KUB 2 |
UV-KUB 3 | ||
顯影(2選1) | 勻膠顯影機(jī) | SC100 |
簡(jiǎn)易顯影池 | 客戶自備 | |
烤膠 | 精密熱板 | HP100 |
PDMS成型(2選1) | PDMS成型機(jī) | ZentriForm |
培養(yǎng)皿/熱板 | 客戶自備培養(yǎng)皿/HP100 | |
表面活化處理 | 等離子清洗機(jī) | CUTE |
鍵合 | 精密熱板 | HP100 |
打孔 | 打孔器 | PDMS Port Creator |
打孔針 | 市售標(biāo)準(zhǔn)型號(hào) |
規(guī)格參數(shù)
項(xiàng)目 | 參數(shù) |
適用芯片 | PDMS芯片制作 |
小結(jié)構(gòu)分辨率 | 2um |
功能圖解
設(shè)備簡(jiǎn)介
清洗工藝:超聲清洗機(jī)(左)和CUTE 等離子清洗機(jī)(右)
② 勻膠工藝(2選1):SC100勻膠顯影(左)和ZentriForm PDMS成型機(jī)(右,具備勻膠功能)
曝光光刻(2選1):UV-KUB 2單層光刻機(jī)(左)和UV-KUB 3對(duì)位光刻機(jī)(右)
④ 顯影:SC100勻膠顯影機(jī)
⑤ 烤膠:HP100 精密熱板
⑥PDMS成型:ZentriForm PDMS成型機(jī)
⑦等離子表面活化處理:CUTE 等離子清洗機(jī)
⑧鍵合:HP100 精密熱板
⑨打孔:打孔器
應(yīng)用系統(tǒng)
PDMS芯片制作
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