立式真空裂解爐 返回列表頁

一、設(shè)備用途：

立式真空裂解爐主要用于硅化硅陶瓷、陶瓷復(fù)合材料等新材料的制備。

二、設(shè)備特點(diǎn)：

1 立式結(jié)構(gòu)，底部出、裝料，爐門采用絲杠升降。

2 雙層爐殼結(jié)構(gòu)，內(nèi)層不銹鋼，外層為碳鋼，中間通水冷卻。石墨碳棒加熱體，石墨碳?xì)直貙颖匦Ч谩?/span>

3 控制方式為PLC加觸摸屏方式，有手動及自動控制切換。自動化程度高，操作方便。

4 主要電器元件采用施耐德及歐姆龍品牌，性能穩(wěn)定、可靠。

5 配備出、裝料料車，方便操作及出裝料，提高工作效率。

三、主要技術(shù)參數(shù)：