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多探針掃描探針顯微鏡(Multi-probe SPM) 返回列表頁

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更新時間：2022-05-30 19:00:03瀏覽次數(shù)：416次

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獨立操作的多探針掃描探針顯微技術(shù)(SPM)一直是SPM發(fā)展的夢想，隨著mv-4000正式推向市場，這個夢想變成了現(xiàn)實。獨立多探針掃描探針顯微鏡(AFM&NSOM)在許多以前不可能實現(xiàn)的領(lǐng)域一顯身手，包括：

1)使用多探針進(jìn)行納米尺度表面電阻測量，雙探針可以構(gòu)建一組納米尺度的四點探針；

2)熱傳導(dǎo)測量+電學(xué)測量相結(jié)合，研究形貌與熱、電相結(jié)合的材料納米特性；

3)多NSOM探針進(jìn)行光學(xué)測量，zui簡單的應(yīng)用為一根探針將光引入光學(xué)元件、另一根探針從光學(xué)元件再將光收集；

4)一探針對材料進(jìn)行光或熱降解，另一探針將降解的成分引入其他設(shè)備進(jìn)行化學(xué)分析；

5)一探針進(jìn)行納米化學(xué)書寫，另一探針進(jìn)行成像監(jiān)控；

6)一探針進(jìn)行納米壓痕，另一探針同時進(jìn)行成像及熱掃描……

這只是多探針掃描探針顯微鏡應(yīng)用的開始，重要的是mv-4000可以為科學(xué)家搭建一個多納米手的多功能平臺，來滿足納米材料科學(xué)家們許多*的想法，而這些想法用傳統(tǒng)的SPM技術(shù)并不能夠?qū)崿F(xiàn)。

告訴我們您的想法，我們來幫您實現(xiàn)吧！

產(chǎn)品規(guī)格：

1）操作模式

原子力顯微鏡(AFM)	敲擊模式，接觸模式(選配)，所有探針或樣品掃描的AFM操作模式
近場掃描光學(xué)顯微鏡(NSOM)	透射模式，反射模式，收集模式，照明模式
微分干涉對比(DIC)	反射和透射
折射率成像(Refractive-Index Profiling)	反射和透射
熱傳導(dǎo)及擴(kuò)展電阻成像	接觸模式，敲擊模式，音叉反饋模式(無反饋激光引入干擾信號,選配)
在線遠(yuǎn)場共聚焦(和拉曼及熒光光譜成像)	反射和透射，針對選擇性拉曼散射超薄膜的探針增強(qiáng)拉曼散射
納米蝕刻(NanoLithography)	NanoFountainPen傳輸化學(xué)物質(zhì)和氣體，近場光刻及其他傳統(tǒng)納米蝕刻如電致氧化等，另一根探針進(jìn)行在線分析
納米壓痕(NanoIndentation)	兆帕力的應(yīng)用，精確定位及力的控制，另一根探針進(jìn)行在線分析
	以上所有功能都可以與在線AFM成像*兼容

2） SPM掃描頭規(guī)格

樣品掃描器	壓電材料制薄片掃描器 (3D Flat Scanner™) 厚度為7毫米
探針掃描器	zui多四個獨立控制的壓電材料制薄片掃描器模塊 (3D Flat Scanner™) 厚度為7毫米
掃描范圍	探針掃描模式，每只探針掃描范圍： 30 microns (XYZ) 樣品掃描模式，掃描范圍： 100 microns (XYZ) 樣品和探針掃描模式，掃描范圍： 130 microns (XYZ) 樣品和兩個探針掃描模式，掃描范圍： 160 microns (XY)
掃描分辨率	< 0.05 nm (Z) < 0.15 nm (XY) < 0.02 nm (XY) 低電壓模式
粗調(diào)定位	樣品粗調(diào)定位：XY馬達(dá)控制臺– 范圍5毫米 – 分辨率0.25微米探針粗調(diào)定位：XY馬達(dá)控制臺– 范圍5毫米 – 分辨率0.25微米 Z馬達(dá)控制臺– 范圍10毫米 – 分辨率0.065微米
反饋機(jī)制	音叉反饋，懸臂梁光束反彈反饋(選配)
樣品幾何要求	樣品尺寸：標(biāo)準(zhǔn)配置下,直徑zui大至16毫米正置顯微鏡下使用,直徑zui大至34毫米只使用探針掃描, 直徑zui大至55毫米可按客戶要求定制大尺寸樣品操作儀器,直徑zui大至8英寸特殊樣品形狀：如豎直樣品進(jìn)行邊緣成像等
探針	各種針尖外露的玻璃探針，各種常規(guī)懸臂梁硅探針均可使用

3）成像分辨率

遠(yuǎn)場	受光衍射幾何限制
光學(xué)	500納米
共聚焦	200納米
近場掃描光學(xué)	100納米，條件下可達(dá)到50納米(由探針孔徑?jīng)Q定)
形貌	Z向噪聲0.05納米 rms. XY橫向分辨率：由針尖直徑和樣品的卷積決定
熱成像	100納米起，溫度靈敏度0.01ºC，300 ºC或更高(由樣品決定)
電阻成像	25納米起