氫氣還原爐

氫氣還原爐用途：

氫氣還原爐主要是用于半導(dǎo)體材料、納米材料、光線材料、銅粉，鈷粉，鎳粉，鎢粉，鉬粉，鎢粉等在各種氣體保護下的各種復(fù)雜工藝，使物料與氫氣充分混合，氣體保護升溫、保溫、降溫，具有多種工藝氣體的流量控制。是科研、教學(xué)、生產(chǎn)、新材料研發(fā)的重要設(shè)備，廣泛適用于化工、電子、冶金、能源等行業(yè)領(lǐng)域。

氫氣還原爐特點：

1、能使物料充分與氫氣混合，使得物料縮短還原時間，節(jié)約大量氫氣（因為氫氣與物料充分混合）。

2、在物料還原結(jié)束后，可根據(jù)物料的特性在不同氣氛中快速或慢速降溫。

3、用工業(yè)微機對工藝時間、溫度、氣體流量、閥門動作、反應(yīng)室壓力實現(xiàn)自動控制。

4、采用進口壓力控制系統(tǒng)，閉環(huán)控制，穩(wěn)定性高。

5、采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。

6、具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。

7、具有良好的人機界面，靈活的工藝性能。

氫氣還原爐主要技術(shù)參數(shù)：

1、控制精度：±1℃

2、爐溫均勻度：±3℃(根據(jù)加熱室大小而定)。

3、微電腦控制，操作方便，可編程，自動升溫、自動保溫、自動降溫。

4、爐腔采用烏鉬材料或根據(jù)物料特性選擇材料。

5、不銹鋼金屬法蘭密封（雙膠圈）。

6、爐體溫度接近室溫。

7、雙回路保護。

8、隔熱材料選用烏鉬，保溫性能好，耐溫高，清潔，降溫快。

9、可通多種氣體（氮氣、氬氣、氫氣等）。

改進創(chuàng)新：

1、可連續(xù)運行，連續(xù)工作，節(jié)約電能。

2、專用設(shè)備對爐內(nèi)提供N2/H2氣體保護。

3、高溫區(qū)長達2米，直徑1.5米額定溫度可達到1700℃。

4、只需一人操作，即可完成生產(chǎn)全過程。