1200度實驗室 PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學(xué)氣象沉積（CVD）反應(yīng)溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應(yīng)裝置將反應(yīng)氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應(yīng)，所以這個系統(tǒng)稱為增強型化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）。
1200度實驗室PECVD綜合了國內(nèi)大多數(shù)廠家的管式PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點，在PECVD前端加入了氣體預(yù)熱區(qū)，實驗證明此結(jié)構(gòu)沉積速度快，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂。
1200度實驗室PECVD技術(shù)參數(shù)
| 1200度管式爐（加熱部分）參數(shù)介紹 |
| 爐膛模式 | 開啟式爐膛 |
| 顯示模式 | 7英寸觸摸屏 |
| 極限溫度 | 1200℃ |
| 工作溫度 | ≤1150℃ |
| 升溫速率 | 建議10℃/Min Max：30℃/Min |
| 爐體移動 | 無極調(diào)速，根據(jù)工藝自動移動 |
| 輔助預(yù)熱 | 加熱區(qū)200mm（足夠長度才能保證溫度準(zhǔn)確度） |
| 溫區(qū)長度 | 440mm（沉積區(qū)），200mm（預(yù)熱區(qū)） |
| 爐管規(guī)格 | 80*2000 mm |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 密封方式 | 快捷法蘭連接密封 |
| 溫度曲線 | 30段"時間—溫度曲線"任意可設(shè) |
| 控制系統(tǒng) | 加熱控制、爐體移動、流量控制、真空系統(tǒng)按照設(shè)定一鍵自動完成整個工藝處理 |
| 預(yù)存曲線 | 可預(yù)存15條工藝曲線，直接保存并隨時調(diào)用 |
| 測溫元件 | K型熱電偶 |
| 爐膛材料 | 高純氧化鋁纖維 |
| 加熱材料 | 摻鉬鐵鉻鋁合金加熱絲 |
射頻電源功率
| 信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% |
| 功率輸出范圍 | 0-500W |
| 功率穩(wěn)定度 | ±0.1% |
| 諧波分量 | ≤-50dbc |
| 供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ |
| 整機效率 | >=70% |
| 功率因素 | >=90% |
| 冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 |
| 控制方式 | 預(yù)先設(shè)定功率大小，自動運行 |
真空部分
| 真空度控制 | 自動平衡到用戶設(shè)定真空度。 |
| 正壓保護 | 工作腔內(nèi)壓力實時監(jiān)測，大于設(shè)定值自動放氣 |
| 工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ |
| 功率 | 500W |
| 抽氣速率 | 2L/s |
| 進氣口口徑 | KF25 |
| 排氣口口徑 | KF25 |
| 轉(zhuǎn)速 | 1450rpm |
| 系統(tǒng)真空度 | ≤10Pa |
三路供氣系統(tǒng)
| 流量計類型 | 質(zhì)子流量控制器 |
| 準(zhǔn)確度 | ±0.35% |
| 重復(fù)精度 | ±0.2% |
| 響應(yīng)時間 | 氣特性：1 Sec |
| 工作壓差范圍 | 0.1～0.5 MPa |
| 氣路管道 | 304不銹鋼 |
| 連接接通 | 雙卡套不銹鋼接頭 |
| 氣體種類 | 氮氣、氬氣、甲烷、二氧化碳、氫氣等等（50～500sccm） |
| 進氣控制 | 每路氣體均可定時通斷，根據(jù)工藝自動切換所需氣體 |
所有評論僅代表網(wǎng)友意見，與本站立場無關(guān)。