1200℃低真空CVD系統(tǒng)簡介
1200℃低真空CVD系統(tǒng)是由滑動式管式實驗電爐，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結溫度可達1200℃，通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。是為石墨烯生長、研發(fā)的專用爐，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。
1200℃三路供氣低真空度旋轉CVD系統(tǒng)采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為風冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0-15deg;）任意可調。管式爐三個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，該管式爐可以在加熱區(qū)內形成三段溫度梯度或是形成較長的恒溫區(qū)域。1200℃三路供氣低真空度旋轉CVD系統(tǒng)每個溫區(qū)均可編輯30段升降溫程序，同時有過熱和斷偶保護功能。爐管兩側法蘭配有數字式真空計和機械式壓力表，可以用來控制爐管內的氣氛環(huán)境。
如果您需要保持物料的單粒結構（如在干燥或煅燒物料時），旋轉管式爐是您的燒結設備。爐管持續(xù)不斷的旋轉運動和氣氛保護的結合應用能使得管內物料攪拌混合獲得均勻受熱效果為您帶來理想的處理結果。
1200℃低真空CVD系統(tǒng)主要技術參數：
| 爐體結構 | 整機采用SUS304不銹鋼材質，流線型外觀，斷熱式結構； 真空吸附成型的優(yōu)質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩(wěn) 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻 支撐兩端安裝油壓緩沖器 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
| 電源 | 電壓：AC220V 50/60Hz；功率：4KW |
| 爐管 | 高純石英管，高溫下化學穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小 尺寸：Phi;60*1200mm |
| 法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫ldquo;Ordquo;型圈緊密密封可獲得高真空 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調節(jié)的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合 |
| 加熱系統(tǒng) | 加熱元件采用優(yōu)質合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經久耐用 加熱區(qū)長度：300mm 恒溫區(qū)長度：150mm 工作溫度：le;1150℃ 額定溫度：1200℃ 升溫速率：10℃/min |
| 溫控系統(tǒng) | 日本富士儀表，64段控溫程序，可分步、分段 測溫元件：N型熱電偶 恒溫精度：±1℃ |
| 混氣系統(tǒng) | 三路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用不銹鋼管，接口為Phi;6卡套 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調節(jié)氣體流量 流量規(guī)格：0~1SLM 流量精度：±1、5% |
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