一、上海理工桌面式小型真空熔煉爐產(chǎn)品簡介

　　主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。可帶噴鑄，澆鑄功能。

　　二、上海理工桌面式小型真空熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)

　　1.熔煉量：200g;

　　2.澆鑄坩堝尺寸：35*70

　　3.熔煉溫度：0-2100℃

　　4.樣品熔煉量：50-200g;

　　5.真空度：5帕;

　　6.熔煉電源功率：7KW;

　　7.熔煉坩堝：氧化鋁

　　8.真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)

　　9.設(shè)備尺寸：620*560*780m（L*W*H）

　　10.標(biāo)配：主機(jī)及感應(yīng)熔煉電源

　　11.桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源