一·科研用小型真空熔煉爐高頻爐設(shè)備用途

　　本設(shè)備桌面式側(cè)開門結(jié)構(gòu)，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。

　　二、科研用小型真空熔煉爐高頻爐產(chǎn)品特點

　　1·熔化速度快，加裝保溫套溫度可達(dá)到2100℃

　　2· 帶傾倒裝置，可將熔好的試樣傾倒在事先準(zhǔn)備好的錠模內(nèi)，澆注出您想要的樣品形狀

　　3· 可在多種氣氛條件下熔煉：空氣狀態(tài)下、保護(hù)氣氛條件下和高真空條件下熔煉，買一種設(shè)備，實現(xiàn)多種功能；節(jié)約您的成本。

　　4· 帶大口徑觀察窗，可直觀看到爐內(nèi)樣品的冶煉情況。

　　5· 爐體全不銹鋼結(jié)構(gòu)，并帶水冷，保證外殼溫度低于35℃，保護(hù)您的人身安全

　　三·科研用小型真空熔煉爐高頻爐設(shè)備參數(shù)

　　1·設(shè)備型號：KZG-0.2

　　2· 坩堝容量：200g(以鋼液）

　　3· 冷態(tài)極限真空度：（真空系統(tǒng)客戶自備，真空腔體按照高真空腔體制作）

　　4. 熔煉溫度：1700℃

　　5· 設(shè)備總功率：7.5Kw；電源電壓：單相220V,50Hz

　　6·真空室尺寸：￠300*350

　　7· 外形尺寸：約800×500×680mm(L×W×H)

　　7· 設(shè)備總重量：120Kg