等離子磁控濺射鍍膜儀 VTC-16-SM

· 電源：AC 220V 50/60Hz

· 濺射電流：0-130mA

· 功率：＜1KW

· 輸出電壓：1600VDC 

· 可抽真空、通氣氛

· PLC集成的控制系統(tǒng)

· 石英腔室、等離子磁控濺射靶頭，靶材濺射擋板

· 帶靶頭支撐架

· 水冷系統(tǒng)

· 薄膜測厚儀（選配）

· 樣品臺加熱（選配）

· 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），另有1英寸靶頭可選；

· 采用快速接頭與真空腔體相連接

· 適合濺射金、銀、鋁、銅等金屬，對基片的損傷和基片溫升比較少

· 標配一塊銅靶，φ2″*3mm

· 靶材尺寸要求：φ2″×（0.1-5）mm厚度

· 靶材和樣品臺之間的距離為60-100mm可調

·腔室尺寸：外徑166mm×內徑150mm×高290mm，采用高純石英制作；

·密封法蘭: 采用金屬鋁制作，氟膠密封圈密封；

· 法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板，用于靶材的預濺射。一個φ6.35的卡套接頭為進氣口，用于連接進氣管。一個手動放氣閥用于往石英腔體內部充入空氣。

·一個不銹鋼網罩罩住整個石英腔體，以屏蔽等離子體。

·通過調節(jié)殼體右側的微量精密調節(jié)閥控制進入石英腔體內部工作氣體的流量，從而達到調節(jié)腔體內部的真空度

·通過調節(jié)殼體右側的電位器，實現對濺射電流大小的控制。

· 樣品臺可旋轉（為了制膜更加均勻）

· 樣品臺尺寸：直徑φ50mm （可放置2英寸的基片）

· 旋轉速度：5 r/min

· 樣品臺可選配加熱功能，加熱溫度可達500℃

   樣品臺可選配制冷功能，制冷溫度可達5℃

· 可訂購其他樣式的樣品臺用于鍍膜光纖等線材的圓周表面

· 4″PLC集成觸摸屏控制面板，可顯示真空、電流、樣品濺射時間等，

·數據記錄功能可以記錄每次濺射的真空度、電流和濺射時間等工藝參數，方便客戶進行查詢。

· 型號：VRD-8

· 抽氣速率：2.2 L/S

· 電機功率：370 W

· 極限壓強：5×10^-1Pa（不帶負載）

· 實際壓強：≤5 Pa（冷態(tài)下機械泵抽20分鐘）

· 如果想要獲得更高的真空度（10^-5toor or better）可選購國產或進口高真空機組

· 型號：KJ-5000

· 工作電流：1.4-2.1A

· 制冷量：2361Btu/h

· 尺寸：55×28×43cm（長×寬×高）

· 水箱容量：6L

· 水流速率：16L/min

· 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10?  

· LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據

·460mm（長）*360mm（寬）*710mm（高）

約20KG

1年（不包密封圈等損耗件）