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天津福業(yè)動力機械科技發(fā)展有限公司

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普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2～5g/L，也有資料是鉻酸含量的1%～2%，三價鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質(zhì)的含量有關(guān)。當Cr3+濃度偏低時，相當于根離子的含量偏高時出現(xiàn)的現(xiàn)象。陰極膜不連續(xù)，分散能力差，而且只有在較高的電流密度下才發(fā)生鉻的沉積；當Cr3+濃度偏高時，相當于根離子的含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導(dǎo)電性，使槽電壓升高，而且會縮小取得光亮鍍鉻的電流密度范圍，嚴重時，只能產(chǎn)生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏高時，也用小面積的陰極和大面積陽極，保持陽極電流密度為1～1.5A/dm2電解處理，處理時間視Cr3+的含量而定，從數(shù)小時到數(shù)晝夜。鍍液溫度為50～60℃時，效果較好

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 當電流密度不變時，電流效率隨溫度升高而下降；若溫度固定，則電流效率隨電流密度的增大而增加。然而，當鉻酸酐與根離子比值減小時，變化相應(yīng)變小。因此鍍硬鉻時，在滿足鍍層性能的前提下，通常采用較低的溫度和較高的陰極電流密度，以獲得較高的鍍層沉積速度。溫度一定時，隨電流密度增加，鍍液的分散能力稍有改善；與此相反，電流密度不變，鍍液的分散能力隨鍍液溫度升高而有一定程度的減小。生產(chǎn)上一般采用中等溫度（45～60℃）與中等電流密度（30～45A/dm2）以得到光亮和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍?nèi)」饬铃儗拥墓に嚄l件相當寬，考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時，欲在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴格控制溫度和電流密度。當鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化控制在土（1～2）℃之間。