單溫區(qū)可傾斜旋轉管式爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材質、新材料開發(fā)、特種材料、建筑等的實驗研究產品介紹

TN-G1200ZC管式爐CVD系統廣泛用于各種反應溫度在1100℃左右的CVD實驗，也可用于：真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領...

TN-G1200Z氣氛管式爐適用于院校實驗室，工礦企業(yè)實驗室，供化學分析，物理測定以及金屬，陶瓷等的燒結和溶解，小型鋼件等加熱，焙燒，熱處理用。

TN-G1100C管式爐CVD主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做鋼材滲碳處理、高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD實驗。

TN-G1700L單溫區(qū)立式管式爐適用于院校實驗室，工礦企業(yè)實驗室，供化學分析，物理測試及金屬，陶瓷等的燒結和溶解，小型鋼件等加熱，焙燒，熱處理。

TN-G1200管式爐適用于院校實驗室，工礦企業(yè)實驗室，供化學分析，物理測定以及金屬，陶瓷等的燒結和溶解，小型鋼件等加熱，焙燒，熱處理用。

TN-G1800K開啟式管式電爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領域產品介紹

TN-G1700管式爐價格適用于院校實驗室，工礦企業(yè)實驗室，供化學分析，物理測定以及金屬，陶瓷等的燒結和溶解，小型鋼件等加熱，焙燒，熱處理用。

TN-G1100ZC高真空CVD管式爐主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）工藝等

TN-G1700Z高溫管式爐廠家產品適用于院校實驗室，工礦企業(yè)實驗室，供化學分析，物理測定以及金屬，陶瓷等的燒結和溶解，小型鋼件等加熱，焙燒，熱處理用。