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TN-G1700S三溫區(qū)三路氣體CVD系統(tǒng)三溫區(qū)管式爐主要用途:陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒...
TN-G1700S三溫區(qū)真空管式爐采用雙層風冷結構;爐膛采用高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型;加熱元件為高密度硅鉬棒配有真空裝置,可在多種氣氛下工作,大大提高了其...
TN-G1700DC三通道管式爐廣泛用于各種反應溫度在1600℃左右的CVD實驗,也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
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