多種薄膜沉積設(shè)備,PECVD、ALD、PLD、MBE、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)等。詳細(xì)介紹請(qǐng)登陸公司網(wǎng)頁(yè)。
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技術(shù)參數(shù)
腔體尺寸: Ø300mm,400mm高;
泵體:260l/s Turbo泵,含有泵前過(guò)濾膜;
蒸發(fā)方式: 用戶(hù)可選擇熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible), 電子束蒸發(fā)或?yàn)R射蒸發(fā);
樣品夾具: 多類(lèi)型,有rotation, heating, cooling, biasing;
樣品尺寸可到Ø250mm,或者多個(gè)小樣品;
設(shè)備大小:一般 495 X 555 X 1302毫米;
主要特點(diǎn)
此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù): 熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible),電子束蒸發(fā),濺射沉積。
這樣我們?cè)谝慌_(tái)設(shè)備上可以靈活運(yùn)用多種膜生長(zhǎng)技術(shù),針對(duì)各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。
腔體的開(kāi)放式設(shè)計(jì),使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個(gè)樣品并同時(shí)鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個(gè)300mm寬的快速通道門(mén),可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對(duì)于薄膜制備研究機(jī)構(gòu),面對(duì)多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來(lái)非常方便,并沒(méi)有任何空間限制。
此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計(jì),可以針對(duì)用戶(hù)的具體應(yīng)用來(lái)訂制設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。
儀器介紹
在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價(jià)格比非常好。
鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。
由于它的模塊化設(shè)計(jì),使得多數(shù)研發(fā)人員用起來(lái)非常方便,針對(duì)各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!