OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有500W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對于有限的經費的情況下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。
OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有500W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對于有限的經費的情況下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。
特征
- 與普通CVD相比可以在低溫環(huán)境下進行氣相沉積實驗
- 對于薄膜的應力可以通過射頻電源的頻率來進行控制
- 通過工藝調節(jié)來控制化學計量
- 能夠廣泛地用于各種材料沉積，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等.
技術參數
開啟式管式爐 | - 輸入電源：208 – 240V AC, 1.2kW
- zui高工作溫度1200℃（小于1小時）
- 連續(xù)使用溫度1100℃
- 采用高純氧化鋁作為爐膛材料，并且表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層，可延長儀器使用壽命和提高加熱效率
- 高純石英爐管，尺寸為 50mmOD x 44mmID x 780mmL
- 可設置30段升降溫程序，并帶有過熱和斷偶保護
- 加熱區(qū)長度為200mm,恒溫區(qū)長度為60mm(+/-1°C)
  
（點擊圖片查看詳細資料）
|
等離子體射頻電源
 | - 輸出功率: 5 -500W可調
- 穩(wěn)定性為+/-1%
- 射頻電源頻13.56 MHZ, 穩(wěn)定性±0.005%
- zui大反向功率: 200W max
- 射頻電源電子輸出口: 50 Ω, N型半島體, 陰極
- 噪聲<50 dB.
- 冷卻方式：空氣冷卻
- 輸入電源: 208-240VAC, 50/60Hz
|
真空法蘭和接頭 | - 真空法蘭采用304不銹鋼制作
- 左端法蘭上安裝有防腐型數字真空計、不銹鋼針閥和一個球閥。
- 右端法蘭設計為KF25接口，上面配有泄氣閥，擋板閥和兩個KF25卡箍
- 儀器中所配的數字真空計，可以不用因使用氣體的不同而進行校正，同時還具有防腐功能（請點擊圖片查看詳細介紹）
 
|
真空泵 
| - AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W
- 2L/s
- 與本公司管式爐配套使用，可使其真空度達到10-2 torr
- 進氣端帶有儲氣球（防止回油），出氣端安裝有油霧過濾器（防止油霧擴散到空氣中，保護環(huán)境和人體健康）
 
|
產品尺寸和重量 | 外形尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 凈重: 160 lbs |
可選配置 | 請點擊查看下面的混氣及氣液混合系統(tǒng) - 防腐型小型三路浮子混氣系統(tǒng)
- 精密氣液混合系統(tǒng)
- 三路質子混氣系統(tǒng)
  
|
質保期 | 一年質保期，終生維護（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件） |
質量認證 | CE Certified |
興旺寶