現(xiàn)有二手尼康Nikon翻新現(xiàn)貨 光刻機(jī)NSR-1755 i7一臺，價(jià)格大約$650,000左右，針對4寸/6寸晶圓，分辨率0.6 um um L&S。
Nikon光刻機(jī)NSR-1755 i7用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)曝光在涂有膠層的硅片表面。
光刻機(jī)NSR-1755 i7含有硅片自動傳輸系統(tǒng)、版庫自動管理系統(tǒng)、可編程掩模光欄、自動調(diào)焦調(diào)平、硅片自動對準(zhǔn)、掩模板自動對準(zhǔn)、鏡頭倍率及焦點(diǎn)自動控制、曝光能量的自動補(bǔ)整、腔體溫度環(huán)境控制、故障顯示報(bào)警等功能。
光刻機(jī)NSR-1755 i7B型投影光刻機(jī)基本工作過程：把曝光掩模和硅片分別裝入掩模庫和硅片承載臺以后；通過操作設(shè)備的控制系統(tǒng)，使設(shè)備按照所需設(shè)定的制作程序自動完成掩模、硅片的傳遞交換，并根據(jù)生產(chǎn)工藝需要進(jìn)行自動對準(zhǔn)、自動調(diào)焦調(diào)平、自動分步曝光等工作過程。
參數(shù)介紹
| 主機(jī)部分 | ||
| 序號 | 名稱 | 主要參數(shù) |
| 1、 | 投影鏡頭 | 5:01 |
| 2、 | 照明系統(tǒng) | I 線汞燈 |
| 3、 | 自動調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng) | |
| 4、 | 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng) | TTL 對準(zhǔn)方式 |
| 5、 | 硅片對準(zhǔn)系統(tǒng) | LSA 對準(zhǔn)方式 |
| 6、 | 激光干涉儀測量系統(tǒng) | HP 激光測長 |
| 7、 | X-Y 工作臺 | |
| 8、 | 承片臺 | 4 寸或6寸晶圓的自動傳輸，吸盤為陶瓷材質(zhì)，手臂為陶瓷材質(zhì)。 |
| 9、 | 硅片傳輸系統(tǒng) | 4 或6寸手動切換 |
| 10、 | 掩模傳輸系統(tǒng) | 5inch 結(jié)構(gòu) |
| 11、 | 凈化恒溫腔室 | 內(nèi)部環(huán)境控制及動力控制 |
| 控制柜部分 | ||
| 序號 | 名稱 | 用途 |
| 1、 | 工作臺控制單元 | 控制工作臺按照產(chǎn)品工藝規(guī)劃運(yùn)動 |
| 2、 | 激光干涉儀計(jì)數(shù)器 | 測量工作臺運(yùn)動位置 |
| 3、 | 掩模對準(zhǔn)控制單元 | 掩模版位置檢測 |
| 4、 | 鏡頭控制單元 | 鏡頭倍率及焦點(diǎn)跟蹤控制 |
| 5、 | 晶圓傳輸控制單元 | 晶園的傳遞、預(yù)定位、交換等過程控制 |
| 6、 | 掩模傳輸控制單元 | Reticle 管理、預(yù)定位、交換等過程控制 |
| 7、 | 恒溫腔體控制單元 | 整機(jī)電源、內(nèi)部凈化、溫度等檢測控制 |
| 8、 | 操作臺 | 主控過程人機(jī)操作界面 |
| 9、 | 計(jì)算機(jī)系統(tǒng) | 整機(jī)主控計(jì)算機(jī)和系統(tǒng)控制應(yīng)用程序 |
| 10、 | CRT (監(jiān)視器) | 圖形和控制界面顯示 |
| 11、 | ITV 控制器 | 用于對準(zhǔn)過程檢測和手動輔助操作 |
運(yùn)輸與保管
合同設(shè)備各部分重量：主機(jī)重量（凈重）2500Kg，控制柜重量 500Kg，變壓器重量 290Kg。
合同設(shè)備運(yùn)輸采用半導(dǎo)體專用設(shè)備減震車運(yùn)輸。
合同設(shè)備對環(huán)境要求：溫度控制在19～24℃之間，濕度小于 70%。
用戶在收到合同設(shè)備及其附件后，應(yīng)即刻運(yùn)送存放在滿足溫度、濕度要求的廠房內(nèi)，切勿露天或在溫濕度不受控的環(huán)境存放。
合同設(shè)備在運(yùn)輸過程中，應(yīng)避免沖擊和震動，輕搬輕放。嚴(yán)格要求具有防振、減震措施，搬運(yùn)過程中振動不大于 1G。
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